| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 碳化硅的基本概述 | 第8-15页 |
| 1.2.1 碳化硅的结构 | 第8-9页 |
| 1.2.2 碳化硅的性能 | 第9-10页 |
| 1.2.3 碳化硅的应用 | 第10页 |
| 1.2.4 碳化硅粉体的制备方法 | 第10-13页 |
| 1.2.5 碳化硅的表征方法 | 第13-15页 |
| 1.3 放电等离子制备与烧结碳化硅 | 第15-17页 |
| 1.3.1 SPS基本构造 | 第15-16页 |
| 1.3.2 SPS烧结机理 | 第16页 |
| 1.3.3 SPS烧结碳化硅的现状 | 第16-17页 |
| 1.4 微波辅助制备碳化硅 | 第17-18页 |
| 1.4.1 微波基本概念 | 第17页 |
| 1.4.2 微波加热原理 | 第17-18页 |
| 1.4.3 微波加热特点 | 第18页 |
| 1.4.4 微波制备碳化硅现状 | 第18页 |
| 1.5 本文的选题目的及意义 | 第18-19页 |
| 1.6 本文的主要研究内容 | 第19-20页 |
| 2 实验试剂与仪器设备 | 第20-22页 |
| 2.1 主要实验试剂 | 第20-21页 |
| 2.2 主要仪器设备 | 第21-22页 |
| 3 放电等离子辅助石英砂碳热还原反应制备碳化硅粉体 | 第22-37页 |
| 3.1 引言 | 第22页 |
| 3.2 实验部分 | 第22-23页 |
| 3.2.1 原料制备 | 第22-23页 |
| 3.2.2 表征与测试 | 第23页 |
| 3.3 放电等离子辅助碳热还原制备碳化硅的影响因素 | 第23-36页 |
| 3.3.1 配碳比对合成碳化硅的影响 | 第23页 |
| 3.3.2 合成温度对合成碳化硅的影响 | 第23-29页 |
| 3.3.3 保温时间对合成碳化硅的影响 | 第29-32页 |
| 3.3.4 原料预压热处理对合成碳化硅的影响 | 第32-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 4 微波辅助石英砂碳热还原反应制备碳化硅粉体 | 第37-42页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 实验部分 | 第37页 |
| 4.2.1 原料的制备 | 第37页 |
| 4.2.2 碳化硅的制备 | 第37页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第37-41页 |
| 4.3.1 配碳比对制备碳化硅的影响 | 第37-39页 |
| 4.3.2 合成温度对制备碳化硅的影响 | 第39-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 5 放电等离子制备碳化硅陶瓷 | 第42-46页 |
| 5.1 引言 | 第42页 |
| 5.2 实验 | 第42-43页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第43-45页 |
| 5.3.1 放电等离子制备的碳化硅微粉的烧结 | 第43-44页 |
| 5.3.2 微波制备碳化硅微粉的烧结 | 第44-45页 |
| 5.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 6 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |