| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 氮化物材料的研究背景与意义 | 第10-11页 |
| 1.2 氮化物材料的结构和特性 | 第11-13页 |
| 1.3 Ni在氮化物表面吸附的研究现状 | 第13页 |
| 1.4 Ni掺杂氮化物的磁性理论研究 | 第13-16页 |
| 1.5 研究内容与本文结构 | 第16-18页 |
| 2 计算原理与测试方法 | 第18-28页 |
| 2.1 第一性原理 | 第18-19页 |
| 2.2 薛定谔方程 | 第19-26页 |
| 2.3 样品结构和物性表征及基本原理简介 | 第26-28页 |
| 3 Ni在AlN表面吸附、扩散的理论研究 | 第28-35页 |
| 3.1 研究目的 | 第28页 |
| 3.2 计算方法 | 第28-29页 |
| 3.3 Ni在AlN表面吸附和扩散的理论计算 | 第29-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 4 Ni掺杂AlN外延薄膜的结构和磁性研究 | 第35-49页 |
| 4.1 研究目的 | 第35页 |
| 4.2 离子注入的工艺特点及退火 | 第35-37页 |
| 4.3 样品制备 | 第37页 |
| 4.4 实验分析 | 第37-42页 |
| 4.5 AlN的理论模型和计算方法 | 第42-45页 |
| 4.6 Ni掺杂AlN的理论结算 | 第45-47页 |
| 4.7 本章小结 | 第47-49页 |
| 5 Ni掺杂AlGaN外延薄膜的结构和磁性研究 | 第49-60页 |
| 5.1 研究目的 | 第49页 |
| 5.2 样品制备 | 第49-50页 |
| 5.3 实验分析 | 第50-55页 |
| 5.4 Al_(0.5)Ga_(0.5)N的理论模型和计算方法 | 第55页 |
| 5.5 Ni掺杂Al_(0.5)Ga_(0.5)N的理论结算 | 第55-58页 |
| 5.6 本章小结 | 第58-60页 |
| 6 总结与展望 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第70页 |