电大尺寸目标的高频方法电磁散射特性分析及快速成像技术研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第7-8页 |
| 1.2 国内外研究概况 | 第8-11页 |
| 1.3 本文内容的结构安排 | 第11-12页 |
| 2 高频方法基本理论 | 第12-21页 |
| 2.1 引言 | 第12页 |
| 2.2 雷达散射截面 | 第12-13页 |
| 2.3 物理光学法 | 第13-16页 |
| 2.3.1 物理光学方法基本原理 | 第13-15页 |
| 2.3.2 遮挡判断 | 第15-16页 |
| 2.4 弹跳射线法 | 第16-20页 |
| 2.4.1 射线路径追踪 | 第16-18页 |
| 2.4.2 射线场强追踪 | 第18页 |
| 2.4.3 远场积分 | 第18-20页 |
| 2.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 3 电大尺寸金属介质混合目标的高频方法分析 | 第21-44页 |
| 3.1 引言 | 第21页 |
| 3.2 均匀介质涂覆金属目标的电磁散射特性 | 第21-27页 |
| 3.2.1 介质涂覆目标的PO方法 | 第21-22页 |
| 3.2.2 多层介质涂覆的广义反射系数 | 第22-25页 |
| 3.2.3 数值算例分析 | 第25-27页 |
| 3.3 非均匀介质金属混合目标的电磁散射特性 | 第27-36页 |
| 3.3.1 电磁波在有耗媒质中的射线传播理论 | 第28-30页 |
| 3.3.2 有耗媒质中的射线场强追踪 | 第30-32页 |
| 3.3.3 金属介质混合目标的SBR计算过程 | 第32-36页 |
| 3.4 数值算例分析 | 第36-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 电大尺寸目标高频方法快速成像 | 第44-63页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 基于高频方法回波的ISAR成像 | 第44-49页 |
| 4.2.1 二维ISAR成像原理 | 第44-46页 |
| 4.2.2 数值算例分析 | 第46-49页 |
| 4.3 基于SBR的二维ISAR成像 | 第49-56页 |
| 4.3.1 SBR成像原理 | 第50-53页 |
| 4.3.2 数值算例分析 | 第53-56页 |
| 4.4 SBR快速成像技术研究 | 第56-62页 |
| 4.4.1 射线成像公式改进 | 第56-57页 |
| 4.4.2 基于GPU并行的快速射线追踪 | 第57-59页 |
| 4.4.3 数值算例分析 | 第59-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 5 结论与研究展望 | 第63-65页 |
| 5.1 全文总结 | 第63-64页 |
| 5.2 研究展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 附录 | 第70页 |
