摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 研究意义和背景 | 第10-12页 |
1.2 光电化学水分解 | 第12-17页 |
1.2.1 基本原理和关键条件 | 第12-13页 |
1.2.2 主要测量指标 | 第13-17页 |
1.3 光电化学水分解研究进展 | 第17-24页 |
1.3.1 氧化物光阳极 | 第18-22页 |
1.3.2 光阳极表面处理 | 第22-24页 |
1.4 本论文主要创新点 | 第24页 |
1.5 本论文的组织结构 | 第24-26页 |
第2章 实验方法 | 第26-30页 |
2.1 主要化学试剂 | 第26-27页 |
2.2 实验设备 | 第27页 |
2.3 样品表征方法 | 第27-28页 |
2.3.1 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第27页 |
2.3.2 能量色散X射线光谱仪(EDS) | 第27-28页 |
2.3.3 透射电子显微镜(TEM) | 第28页 |
2.3.4 X射线衍射(XRD) | 第28页 |
2.3.5 紫外-可见吸收光谱(UV-vis) | 第28页 |
2.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
2.4 光电化学性能表征方法 | 第28-30页 |
第3章 Ti:Fe_2O_3/CdSe异质结构的表面处理及其光电化学行为的研究 | 第30-44页 |
3.1 引言 | 第30-31页 |
3.2 Ti:Fe_2O_3/CdSe光电极制备 | 第31页 |
3.2.1 Ti掺杂的Fe_2O_3光阳极的制备 | 第31页 |
3.2.2 CdSe的修饰及退火处理 | 第31页 |
3.3 结果与讨论 | 第31-42页 |
3.3.1 Ti:Fe_2O_3/CdSe异质结效应 | 第31-36页 |
3.3.2 不同氛围退火效应 | 第36-42页 |
3.4 机理讨论 | 第42-43页 |
3.5 本章小结 | 第43-44页 |
第4章 W:BiVO_4的表面化学处理及其光电化学行为的研究 | 第44-58页 |
4.1 引言 | 第44-45页 |
4.2 W:BiVO_4光电极制备 | 第45页 |
4.2.1 W:BiVO_4电极的制备 | 第45页 |
4.2.2 表面处理 | 第45页 |
4.3 结果与讨论 | 第45-56页 |
4.3.1 NaOH处理W:BiVO_4光电极 | 第45-54页 |
4.3.2 NaOH处理BiVO_4光电极 | 第54-56页 |
4.4 机理讨论 | 第56页 |
4.5 本章小结 | 第56-58页 |
第5章 结论与展望 | 第58-60页 |
5.1 结论 | 第58页 |
5.2 展望 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-70页 |
致谢 | 第70-72页 |
硕士期间研究成果 | 第72页 |