TC4钛合金离子抛光工艺及机理研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 课题背景 | 第9-10页 |
| 1.2 钛合金抛光技术研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3 离子抛光工艺及机理研究现状 | 第12-18页 |
| 1.3.1 离子抛光工艺研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3.2 离子抛光机理研究现状 | 第15-18页 |
| 1.4 计算材料学在溅射模拟中的应用 | 第18-21页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 离子抛光过程模拟及实验手段 | 第22-29页 |
| 2.1 计算模拟简化手段 | 第22-24页 |
| 2.1.1 绝热近似 | 第22页 |
| 2.1.2 单电子近似 | 第22页 |
| 2.1.3 溅射分子动力学模型的近似处理 | 第22-24页 |
| 2.2 密度泛函理论简述 | 第24页 |
| 2.3 分子动力学计算简述 | 第24-26页 |
| 2.4 实验手段 | 第26-29页 |
| 2.4.1 实验材料 | 第26页 |
| 2.4.2 实验设备 | 第26-27页 |
| 2.4.3 实验方法 | 第27-28页 |
| 2.4.4 分析测试方法 | 第28-29页 |
| 第3章 TC4钛合金离子抛光工艺探究 | 第29-49页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 SRIM溅射产额模拟 | 第29-34页 |
| 3.2.1 基于密度泛函理论计算元素表面结合能 | 第29-33页 |
| 3.2.2 SRIM溅射产额模拟计算结果 | 第33-34页 |
| 3.3 设备抛光工艺有效性验证及影响因素探究 | 第34-47页 |
| 3.3.1 离子束流 | 第34-37页 |
| 3.3.2 离子能量 | 第37-39页 |
| 3.3.3 离子入射角度 | 第39-41页 |
| 3.3.4 离子抛光工艺对基体组织与成分的影响 | 第41-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 势函数的构建与分子动力学模型构造 | 第49-68页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 Ar-Ti间ZBL势函数的构建 | 第49-51页 |
| 4.3 基于LAMMPS的分子动力学模型构建 | 第51-53页 |
| 4.4 分子动力学模型在离子轰击下的演变研究 | 第53-61页 |
| 4.4.1 基于分子动力学模型对表面溅射的研究 | 第53-56页 |
| 4.4.2 基于分子动力学模型对表面非晶化的研究 | 第56-61页 |
| 4.5 不同晶体结构及取向下离子溅射计算分析 | 第61-66页 |
| 4.6 本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 离子抛光机理探究 | 第68-79页 |
| 5.1 引言 | 第68页 |
| 5.2 离子轰击表面溅射 | 第68-74页 |
| 5.2.1 薄膜溅射实验 | 第68-71页 |
| 5.2.2 表面形貌对溅射产额的影响 | 第71-74页 |
| 5.3 离子轰击增强表面原子迁移 | 第74-78页 |
| 5.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 结论 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
