| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 本论文的研究意义 | 第10页 |
| 1.2 CoFeB薄膜的研究现状 | 第10-18页 |
| 1.2.1 CoFeB薄膜制备 | 第11-17页 |
| 1.2.2 CoFeB薄膜多层膜结构垂直各向异性 | 第17-18页 |
| 1.3 CoFeB薄膜的应用前景 | 第18-20页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 本文涉及主要理论 | 第21-30页 |
| 2.1 铁磁共振原理 | 第21-26页 |
| 2.2 吉尔伯特阻尼系数理论和计算 | 第26-28页 |
| 2.3 反常霍尔效应相关理论 | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 CoFeB薄膜的制备与性能表征 | 第30-50页 |
| 3.1 薄膜的制备工艺以及表征方法 | 第30-33页 |
| 3.1.1 薄膜的制备工艺 | 第30-31页 |
| 3.1.2 薄膜的表征设备 | 第31-33页 |
| 3.2 CoFeB金属软磁薄膜制备及表征 | 第33-46页 |
| 3.2.1 溅射功率对CoFeB薄膜性能的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.2 溅射气压对CoFeB薄膜性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.2.3 靶材与基片之间距离对CoFe B薄膜性能的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.4 最佳工艺条件下的薄膜性能的测试 | 第39-41页 |
| 3.2.5 添加缓冲层对薄膜性能的影响 | 第41-46页 |
| 3.3 TiO_2薄膜的制备 | 第46-48页 |
| 3.3.1 TiO_2薄膜的制备工艺叙述 | 第46-47页 |
| 3.3.2 TiO_2薄膜性能的测试 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 基于Ta/CoFeB/TiO_2多层膜结构的制备及其垂直各向异性表征 | 第50-67页 |
| 4.1 基于Ta/CoFeB/TiO_2多层膜结构的制备 | 第50-53页 |
| 4.1.1 掩模板的选择和设计 | 第50-51页 |
| 4.1.2 Hall Bar样品的制备 | 第51-53页 |
| 4.2 反常霍尔效应表征垂直各向异性系统的搭建 | 第53-64页 |
| 4.2.1 反常霍尔效应表征垂直各向异性系统的硬件设计 | 第53-56页 |
| 4.2.2 反常霍尔效应表征垂直各向异性系统的软件设计 | 第56-63页 |
| 4.2.2.1 C语言编程 | 第56-57页 |
| 4.2.2.2 labview软件编程 | 第57-63页 |
| 4.2.3 反常霍尔效应表征垂直各向异性系统展示 | 第63-64页 |
| 4.3 利用反常霍尔效应表征多层膜结构的垂直各向异性 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 全文结论与展望 | 第67-68页 |
| 5.1 全文结论 | 第67页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第73-74页 |
