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低温低应力化学镀铜溶液稳定性的研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-18页
    1.1 化学镀铜的研究第10-13页
    1.2 低应力化学镀铜的研究第13-15页
    1.3 化学镀铜稳定性的研究第15-17页
    1.4 本课题研究的意义和目的第17-18页
第2章 实验方法第18-24页
    2.1 实验原理第18-19页
    2.2 实验材料第19页
    2.3 实验步骤第19-24页
        2.3.1 ABS基板的前处理第19-21页
        2.3.2 化学镀铜溶液的配制及操作条件第21页
        2.3.3 化学镀铜速率的测定第21页
        2.3.4 化学镀铜形貌的检测第21-22页
        2.3.5 化学镀铜膜应力的检测第22-23页
        2.3.6 镀液寿命的检测第23-24页
第3章 添加剂对低温化学镀铜速率和形貌的影响第24-52页
    3.1 引言第24-25页
    3.2 单一添加剂对化学镀铜沉积速率的影响第25-34页
        3.2.1 单一添加腺嘌呤对化学镀铜沉积速率的影响第25-26页
        3.2.2 单一添加鸟嘌呤对化学镀铜沉积速率的影响第26-27页
        3.2.3 单一添加亚硫酸钠对化学镀铜沉积速率的影响第27-28页
        3.2.4 单一添加硅酸钠对化学镀铜沉积速率的影响第28-29页
        3.2.5 单一添加六氟硅酸钠对化学镀铜沉积速率的影响第29-30页
        3.2.6 单一添加8-羟基-7-碘-5-喹啉磺酸对化学镀铜沉积速率的影响第30-31页
        3.2.7 单一添加聚乙烯吡咯烷酮对化学镀铜沉积速率的影响第31-32页
        3.2.8 单一添加FC-80对化学镀铜沉积速率的影响第32-33页
        3.2.9 单一添加FC-134对化学镀铜沉积速率的影响第33-34页
    3.3 复合添加剂对化学镀铜沉积速率的影响第34-45页
        3.3.1 腺嘌呤与亚硫酸钠一起添加对化学镀铜沉积速率的影响第34-35页
        3.3.2 鸟嘌呤与高铁试剂一起添加对化学镀铜沉积速率的影响第35页
        3.3.3 L-苹果酸与PVP一起添加对化学镀铜沉积速率的影响第35-36页
        3.3.4 L-苹果酸与硅酸钠一起添加对化学镀铜沉积速率的影响第36-37页
        3.3.5 L-苹果酸与六氟硅酸钠一起添加对化学镀铜沉积速率的影响第37-38页
        3.3.6 L-苹果酸与FC-80一起添加对化学镀铜沉积速率的影响第38-39页
        3.3.7 L-苹果酸与FC-134一起添加对化学镀铜沉积速率的影响第39页
        3.3.8 原体系中加入亚硫酸钠对化学镀铜沉积速率的影响第39-40页
        3.3.9 用腺嘌呤替换体系3.3.8中的L-苹果酸后速率变化第40-41页
        3.3.10 原体系中加入硅酸钠对化学镀铜沉积速率的影响第41页
        3.3.11 原体系中加入六氟硅酸钠对化学镀铜沉积速率的影响第41-42页
        3.3.12 原体系中加入PVP对化学镀铜沉积速率的影响第42-43页
        3.3.13 原体系中加入高铁试剂对化学镀铜沉积速率的影响第43页
        3.3.14 用鸟嘌呤替换体系3.3.13中的L-苹果酸后速率变化第43-44页
        3.3.15 原体系中加入FC-80对化学镀铜沉积速率的影响第44-45页
        3.3.16 原体系中加入FC-134对化学镀铜沉积速率的影响第45页
    3.4 两种添加剂复合对化学镀铜沉积形貌的影响第45-47页
    3.5 多种添加剂复合对化学镀铜沉积形貌的影响第47-49页
    3.6 本章小结第49-52页
第4章 添加剂对低温化学镀铜膜应力的影响第52-60页
    4.1 引言第52页
    4.2 应力的测试第52-56页
    4.3 六氟硅酸钠对化学镀铜膜应力的影响第56-57页
    4.4 FC-80对化学镀铜膜应力的影响第57-58页
    4.5 FC-134代替硫酸镍对化学镀铜膜应力的影响第58-59页
    4.6 本章小结第59-60页
第5章 添加剂对低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第60-84页
    5.1 引言第60页
    5.2 负载的研究第60-61页
    5.3 镀液各成分补加量的测定第61-62页
        5.3.1 Cu~(2+)的测定第61-62页
        5.3.2 HCHO的测定第62页
    5.4 添加剂对镀液周期的影响第62-81页
        5.4.1 原低温低应力化学镀铜溶液周期的测定第62-66页
        5.4.2 亚硫酸钠对原低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第66-68页
        5.4.3 腺嘌呤与亚硫酸钠一起添加对化学镀铜溶液周期的影响第68-69页
        5.4.4 硅酸钠对原低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第69-71页
        5.4.5 PVP对原低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第71-73页
        5.4.6 六氟硅酸钠对原低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第73-74页
        5.4.7 高铁试剂对原低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第74-76页
        5.4.8 鸟嘌呤与高铁试剂一起添加对化学镀铜溶液周期的影响第76-78页
        5.4.9 FC-80对原低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第78-79页
        5.4.10 FC-134对原低温低应力化学镀铜溶液周期的影响第79-81页
    5.5 本章小结第81-84页
第6章 全文总结第84-86页
参考文献第86-92页
致谢第92-94页
攻读学位期间的研究成果第94页

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