| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-10页 |
| 1.2 面曝光快速成形 | 第10-12页 |
| 1.2.1 动态掩膜的生成技术 | 第10-11页 |
| 1.2.2 面曝光快速成形中的剥离失效 | 第11-12页 |
| 1.3 内聚力模型 | 第12-13页 |
| 1.4 论文研究思路及主要内容 | 第13-14页 |
| 2 基于纳米小球自组装的准周期纳米结构图形化工艺研究 | 第14-30页 |
| 2.1 二氧化硅单分散微球制备原理 | 第14-16页 |
| 2.2 二氧化硅单分散微球合成结果与缺陷分析 | 第16-19页 |
| 2.3 分子自组装原理与方法 | 第19-20页 |
| 2.4 提拉法制备具有有序纳米结构表面 | 第20-24页 |
| 2.4.1 提拉法制备二氧化硅小球单层掩蔽膜工艺流程 | 第20-22页 |
| 2.4.2 准周期纳米有序结构的结构色与衍射特性 | 第22-23页 |
| 2.4.3 提拉法自组装实验结果 | 第23-24页 |
| 2.5 自组装表面缺陷分析及影响因素 | 第24-29页 |
| 2.5.1 分子自组装过程中的不均匀排布 | 第25-27页 |
| 2.5.2 分子自组装过程中的多层排布 | 第27-28页 |
| 2.5.3 表面缺陷 | 第28-29页 |
| 2.6 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 微模铸成形制备表面纳米织构化的PDMS防粘附功能膜 | 第30-46页 |
| 3.1 准周期纳米结构硅模具湿法刻蚀制备工艺 | 第31-33页 |
| 3.1.1 湿法刻蚀工艺路线 | 第31页 |
| 3.1.2 湿法刻蚀结果及分析 | 第31-33页 |
| 3.2 准周期纳米结构硅模具反应离子刻蚀制备工艺 | 第33-38页 |
| 3.2.1 RIE干法刻蚀工艺路线 | 第33-34页 |
| 3.2.2 RIE刻蚀结果与分析 | 第34-35页 |
| 3.2.3 其他刻蚀方法结果 | 第35-37页 |
| 3.2.4 影响刻蚀结果的因素分析 | 第37-38页 |
| 3.3 纳米织构化的PDMS防粘附功能膜微模铸制备工艺 | 第38-43页 |
| 3.3.1 液态浇铸法工艺流程 | 第38-40页 |
| 3.3.2 液态浇铸工艺中PDMS流动、填充机理分析 | 第40-43页 |
| 3.4 PDMS防粘附膜的制备结果与分析 | 第43-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 4 PDMS膜防粘附性仿真实验 | 第46-52页 |
| 4.1 内聚力模型原理 | 第46-47页 |
| 4.2 使用ABAQUS构建内聚力模型 | 第47-49页 |
| 4.2.1 实验设计与模型建立 | 第48页 |
| 4.2.2 参数设置 | 第48-49页 |
| 4.3 仿真结果与分析 | 第49-51页 |
| 4.3.1 PDMS膜防粘附性仿真验证 | 第49-50页 |
| 4.3.2 不同类型纳米结构间防粘附性比对仿真 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 5 PDMS防粘附膜的测试 | 第52-64页 |
| 5.1 纳米织构化结构膜增透性测试 | 第52-54页 |
| 5.2 纳米织构化表面接触角测量及表面能分析 | 第54-55页 |
| 5.3 PDMS膜的防粘附性测试分析 | 第55-59页 |
| 5.4 表面纳米织构化PDMS防粘附膜打印实验 | 第59-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 6 总结与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 总结 | 第64-65页 |
| 6.2 展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及科研成果 | 第74页 |
