| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 投影显示系统概述及其发展 | 第13-21页 |
| 1.3 常见投影显示芯片 | 第21-22页 |
| 1.3.1 LCD(LiquidCrystalDisplay,液晶) | 第21页 |
| 1.3.2 DMD(DigitalMicromirrorDevice,数字微反射镜) | 第21-22页 |
| 1.4 LED微显示阵列器件及其发展现状 | 第22-29页 |
| 1.4.1 国外发展现状 | 第23-26页 |
| 1.4.2 国内发展现状 | 第26-29页 |
| 1.5 论文的主要研究内容 | 第29-30页 |
| 第2章 LED工作原理及相关特性 | 第30-44页 |
| 2.1 LED发光机理 | 第30-33页 |
| 2.2 红光LED的材料 | 第33-35页 |
| 2.3 LED的光电特性 | 第35-39页 |
| 2.3.1 电流-电压特征 | 第35-37页 |
| 2.3.2 LED效率 | 第37-39页 |
| 2.4 LED色度学原理 | 第39-42页 |
| 2.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第3章 微投影系统光学设计与分析 | 第44-64页 |
| 3.1 LED微投影仪结构及系统参数设计 | 第44-51页 |
| 3.1.1 LED微投影仪结构 | 第44页 |
| 3.1.2 系统参数设计 | 第44-51页 |
| 3.2 投影物镜设计 | 第51-58页 |
| 3.2.1 结构分析 | 第51-53页 |
| 3.2.2 投影物镜中后置正透镜组的选择 | 第53-57页 |
| 3.2.3 投影系统结构优化 | 第57-58页 |
| 3.3 投影物镜评价 | 第58-61页 |
| 3.3.1 成像质量评价 | 第58-60页 |
| 3.3.2 能量及照度分析 | 第60-61页 |
| 3.4 建模仿真 | 第61-62页 |
| 3.5 公差分析及镜头加工 | 第62-63页 |
| 3.6 本章小结 | 第63-64页 |
| 第4章 红光LED微显示阵列的关键制作技术研究 | 第64-80页 |
| 4.1 微型LED阵列器件结构设计 | 第64页 |
| 4.2 工艺流程设计 | 第64-66页 |
| 4.3 隔离沟道的制作 | 第66-72页 |
| 4.3.1 刻蚀工艺 | 第66-67页 |
| 4.3.2 ICP刻蚀工艺 | 第67-69页 |
| 4.3.3 沟道制作流程 | 第69-72页 |
| 4.4 隔离沟道的填充 | 第72-76页 |
| 4.4.1 填充材料的选择 | 第72-74页 |
| 4.4.2 隔离沟道的填充装置及方法 | 第74-76页 |
| 4.5 GaAs衬底减薄 | 第76-78页 |
| 4.6 本章小结 | 第78-80页 |
| 第5章 总结与展望 | 第80-82页 |
| 5.1 总结 | 第80页 |
| 5.2 创新点 | 第80-81页 |
| 5.3 展望 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第90页 |