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非制冷红外焦平面阵列信号读出电路设计与分析

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第1章 绪论第13-23页
    1.1 本研究的背景与意义第13-14页
    1.2 红外成像技术概况第14-17页
        1.2.1 光子响应型像元第14-16页
        1.2.2 热响应型像元第16-17页
    1.3 非制冷红外焦平面发展现状第17-18页
    1.4 读出电路的发展第18-22页
        1.4.1 读出电路的结构第19-20页
        1.4.2 读出电路的发展方向第20-22页
    1.5 研究内容与论文结构第22-23页
第2章 非制冷红外成像理论第23-35页
    2.1 红外辐射及大气窗口第23-24页
    2.2 红外焦平面阵列介绍第24-26页
    2.3 非制冷红外焦平面阵列的读出电路第26-28页
    2.4 焦平面阵列及读出电路的噪声第28-31页
        2.4.1 焦平面阵列的热噪声第28页
        2.4.2 闪烁噪声第28-29页
        2.4.3 背景噪声第29页
        2.4.4 读出电路中的噪声第29-30页
        2.4.5 固有模式噪声第30-31页
    2.5 非制冷红外成像系统的性能参数第31-32页
        2.5.1 噪声等效温差第31页
        2.5.2 响应率与光谱响应第31-32页
        2.5.3 噪声等效功率与探测率第32页
    2.6 本章小结第32-35页
第3章 读出电路的分析设计与仿真第35-57页
    3.1 像元读出单元电路的设计第35-45页
        3.1.1 偏置电路及其仿真第35-38页
        3.1.2 积分放大电路第38-43页
        3.1.3 采样保持模块第43-45页
    3.2 数字电路的设计与仿真第45-48页
        3.2.1 FPGA芯片第45-46页
        3.2.2 数字时序电路的设计与仿真第46-48页
    3.3 单元读出电路整体仿真第48-50页
    3.4 模拟电路噪声分析第50-56页
    3.5 本章小结第56-57页
第4章 红外焦平面非均匀性及其校正方法第57-75页
    4.1 红外焦平面阵列的响应非均匀性第57-59页
        4.1.1 与器件自身有关的非均匀性第57-58页
        4.1.2 与器件工作状态引入的非均匀性第58-59页
        4.1.3 与外界相关的非均匀性第59页
    4.2 常见的非均匀性校正方法第59-65页
        4.2.1 基于定标的校正方法第59-61页
        4.2.2 基于场景的校正方法第61-65页
    4.3 基于偏置电流的非均匀性校正原理第65-68页
    4.4 可调电流源设计及仿真第68-71页
        4.4.1 电流镜原理第68-70页
        4.4.2 可调电流源设计与仿真第70-71页
    4.5 校正方法及仿真分析第71-74页
    4.6 本章小节第74-75页
第5章 总结与展望第75-77页
    5.1 工作总结第75-76页
    5.2 创新点第76页
    5.3 工作展望第76-77页
参考文献第77-83页
附录第83-93页
    附录I 模拟电路PSPICE仿真网格文件第83-84页
    附录II 时序控制电路VerilogHDL源代码第84-93页
致谢第93-95页
作者简介及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第95页

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