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低温等离子体处理对聚酰亚胺纳米复合薄膜表面放电影响

摘要第6-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-21页
    1.1 研究背景及意义第11-13页
    1.2 低温等离子体概述第13-16页
        1.2.1 低温等离子体的产生方式第13-16页
        1.2.2 材料表面改性方面的应用第16页
    1.3 国内外研究现状第16-20页
        1.3.1 牵引电机的绝缘破坏机理第16-18页
        1.3.2 材料的等离子体改性第18-20页
    1.4 本文主要内容第20-21页
第2章 聚酰亚胺纳米薄膜的制备及结构表征第21-28页
    2.1 聚酰亚胺纳米复合薄膜的制备方法第21-23页
        2.1.1 主流制备方法第21页
        2.1.2 实验仪器和试剂第21-23页
    2.2 PI/Al_2O_3薄膜的制备流程第23-25页
        2.2.1 纳米粒子表面改性第23页
        2.2.2 PI/Al_2O_3薄膜的制备第23-25页
    2.3 PI/Al_2O_3薄膜结构表征第25-27页
        2.3.1 微观形貌第25-26页
        2.3.2 化学结构第26-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第3章 低温等离子体处理后PI/Al_2O_3薄膜的性能探究第28-38页
    3.1 试验系统及方法第28-33页
        3.1.1 介质阻挡放电平台第28-31页
        3.1.2 接触角实验第31-32页
        3.1.3 表面电导率测量第32页
        3.1.4 耐电晕测试系统第32-33页
    3.2 试验结果和讨论第33-37页
        3.2.1 接触角和表面能第33-34页
        3.2.2 表面电导率第34-35页
        3.2.3 耐电晕性能第35-37页
    3.3 本章小结第37-38页
第4章 低温等离子体对PI/Al_2O_3薄膜性能的影响机理第38-50页
    4.1 等离子体表面改性机理第38-45页
        4.1.1 发射光谱第38-39页
        4.1.2 微观形貌第39-41页
        4.1.3 红外光谱第41-43页
        4.1.4 改性机理第43-45页
    4.2 等离子体处理对PI/Al_2O_3薄膜表面放电影响机理第45-48页
        4.2.1 单层薄膜表面放电第45-47页
        4.2.2 双层叠加薄膜表面放电第47-48页
    4.3 本章小结第48-50页
结论第50-51页
致谢第51-52页
参考文献第52-58页
攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果第58-59页

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