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过渡金属氧化物忆阻器的阻变性能及大脑神经功能模拟研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-35页
    1.1 引言第10-13页
    1.2 忆阻器的阻变研究进展第13-24页
    1.3 类突触电子器件的研究进展第24-33页
    1.4 论文选题意义及研究内容第33-35页
第2章 氧化物薄膜制备技术及器件表征第35-44页
    2.1 薄膜生长技术第35-39页
    2.2 结构与形貌表征技术第39-40页
    2.3 电极制作技术第40-42页
    2.4 电学性能测试技术第42-44页
第3章 TiO_2忆阻器件的制备及其阻变特性研究第44-57页
    3.1 引言第44-45页
    3.2 TiO_2忆阻器件的制备第45-48页
    3.3 Ti/TiO_2/Pt的阻变特性研究第48-55页
    3.4 本章小结第55-57页
第4章 SrTiO_3忆阻器件的制备及其阻变特性研究第57-84页
    4.1 引言第57-58页
    4.2 施主掺杂SrTiO_3单晶的阻变特性研究第58-69页
    4.3 受主掺杂SrTiO_3薄膜阻变特性研究第69-82页
    4.4 本章小结第82-84页
第5章 突触可塑性及巴普洛夫条件反射功能实现第84-97页
    5.1 Ni/Nb-SrTiO_3/Ti忆阻器模拟突触可塑性第84-87页
    5.2 Ni/Nb-SrTiO_3/Ti忆阻器实现巴甫洛夫条件反射功能第87-95页
    5.3 本章小结第95-97页
第6章 心理学的学习-遗忘功能模拟第97-107页
    6.1 心理学上的学习-遗忘第97-99页
    6.2 Ni/Nb-SrTiO_3/Ti忆阻器的学习与遗忘定义第99-100页
    6.3 Ni/Nb-SrTiO_3/Ti忆阻器的学习-遗忘规律实现第100-105页
    6.4 本章小结第105-107页
第7章 总结与展望第107-110页
    7.1 论文总结第107-108页
    7.2 论文创新点第108-109页
    7.3 展望第109-110页
致谢第110-111页
参考文献第111-126页
附录1 攻读博士学位期间发表的论文目录第126页

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