| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-38页 |
| 1.1 关联电子氧化物中的金属绝缘体转变 | 第13-16页 |
| 1.2 金属绝缘体转变的基本机制 | 第16-23页 |
| 1.2.1 能带理论 | 第16-18页 |
| 1.2.2 Mott转变 | 第18-20页 |
| 1.2.3 Anderson转变 | 第20-23页 |
| 1.3 钙钛矿稀土镍酸盐ReNiO_3 | 第23-33页 |
| 1.3.1 ReNiO_3陶瓷、薄膜的制备及其中的氧空位 | 第23-24页 |
| 1.3.2 晶体结构与MI转变 | 第24-26页 |
| 1.3.3 压力与外延应变的作用 | 第26-28页 |
| 1.3.4 电场调控ReNiO_3的MI转变 | 第28-30页 |
| 1.3.5 ReNiO_3中MI转变的机制 | 第30-33页 |
| 1.4 本论文的研究内容及方法 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-38页 |
| 第2章 生长氧压与温度对Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_3/LaAlO_3外延薄膜MI转变的影响 | 第38-67页 |
| 2.1 Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_3/LaAlO_3外延薄膜的制备 | 第38-46页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积(PLD) | 第38-43页 |
| 2.1.2 靶材制备与衬底选择 | 第43-44页 |
| 2.1.3 PLD制备Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_3薄膜 | 第44-46页 |
| 2.2 Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_3/LaAlO_3外延薄膜的表征 | 第46-54页 |
| 2.2.1 表面形貌的原子力显微镜表征 | 第46-47页 |
| 2.2.2 薄膜结构的X射线衍射表征 | 第47-52页 |
| 2.2.2.1 XRD基本原理 | 第47-48页 |
| 2.2.2.2 薄膜结构XRD表征实验方法 | 第48-52页 |
| 2.2.3 薄膜的电学性能表征 | 第52-54页 |
| 2.3 生长氧压对Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_(3-δ)外延薄膜MI转变的影响 | 第54-61页 |
| 2.3.1 背景介绍 | 第54-55页 |
| 2.3.2 实验结果与讨论 | 第55-61页 |
| 2.4 衬底温度对Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_(3-δ)外延薄膜MI转变的影响 | 第61-64页 |
| 2.4.1 背景介绍 | 第61-62页 |
| 2.4.2 实验结果与讨论 | 第62-64页 |
| 本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第3章 电流调控Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_3/LaAlO_3外延薄膜的MI转变 | 第67-81页 |
| 3.1 Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_3/LaAlO_3薄膜的基本性质 | 第67-73页 |
| 3.1.1 同步辐射高分辨XRD结构表征 | 第67-69页 |
| 3.1.2 表面形貌 | 第69-70页 |
| 3.1.3 p-T曲线 | 第70-73页 |
| 3.2 DC电流对薄膜MI转变的调控 | 第73-78页 |
| 3.2.1 不同电流下的R-T曲线 | 第73-74页 |
| 3.2.2 薄膜的非线性I-V关系 | 第74-76页 |
| 3.2.3 MI转变相图 | 第76-78页 |
| 本章小结 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第4章 Sm_(0.6)Nd_(0.4)NiO_3/LaAlO_3外延薄膜中NiO_6八面体在MI转变附近的结构变化 | 第81-103页 |
| 4.1 氧八面体旋转与半指数衍射峰 | 第81-90页 |
| 4.1.1 钙钛矿氧化物材料中的八面体旋转 | 第81-86页 |
| 4.1.2 半指数衍射峰表征八面体旋转 | 第86-90页 |
| 4.2 原位变温XRD | 第90-94页 |
| 4.2.1 实验装置 | 第90-91页 |
| 4.2.2 测试方法 | 第91-94页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第94-99页 |
| 4.3.1 MI转变温度附近NiO_6八面体的结构变化 | 第94-96页 |
| 4.3.2 低温下施加DC电流时薄膜的半指数衍射峰 | 第96-99页 |
| 本章小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-103页 |
| 第5章 结论与展望 | 第103-109页 |
| 5.1 论文内容总结 | 第103-104页 |
| 5.2 本论文创新点 | 第104-105页 |
| 5.3 氧八面体旋转在钙钛矿体系薄膜中的研究展望 | 第105-108页 |
| 5.3.1 氧八面体旋转与MI转变的定量分析 | 第105页 |
| 5.3.2 反常散射测量Ni~(3+δ)-O~(2-)-Ni~(3-δ)电荷序 | 第105页 |
| 5.3.3 氧八面体旋转的应变调控：面内各向异性应变与实时应变调控 | 第105-108页 |
| 参考文献 | 第108-109页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
