摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第1章 绪论 | 第14-30页 |
1.1 课题研究背景 | 第14-15页 |
1.2 氧化铝薄膜的研究现状 | 第15-18页 |
1.2.1 氧化铝的基本特性 | 第15-16页 |
1.2.2 晶态氧化铝薄膜研究现状 | 第16-18页 |
1.3 纳米多层膜的力学性能 | 第18-20页 |
1.4 薄膜热传导概述 | 第20-27页 |
1.4.1 微尺度热传导简述 | 第21-23页 |
1.4.2 薄膜热导率概述 | 第23-25页 |
1.4.3 薄膜热导率测量方法 | 第25-27页 |
1.5 薄膜的主要制备方法 | 第27-29页 |
1.6 本文主要研究内容 | 第29-30页 |
第2章 材料制备及表征方法 | 第30-42页 |
2.1 氧化铝薄膜的制备 | 第30-36页 |
2.1.1 磁控溅射原理及实验系统 | 第30-32页 |
2.1.2 氧化铝薄膜的沉积过程 | 第32-36页 |
2.2 铜(钼)/氧化铝纳米多层膜的制备 | 第36-38页 |
2.2.1 铜(钼)单层膜沉积过程 | 第36-37页 |
2.2.2 铜(钼)/氧化铝纳米多层膜沉积过程 | 第37-38页 |
2.3 表征方法及原理 | 第38-42页 |
2.3.1 生长速率测量 | 第38-39页 |
2.3.2 原子力显微镜(AFM)观察 | 第39页 |
2.3.3 扫描电子显微镜(SEM)观察 | 第39页 |
2.3.4 透射电子显微镜(TEM)观察 | 第39页 |
2.3.5 掠入射 X 射线衍射(GIXRD)分析 | 第39-40页 |
2.3.6 X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第40页 |
2.3.7 X 射线反射(XRR)分析 | 第40页 |
2.3.8 紫外可见光学性能测量 | 第40页 |
2.3.9 红外光学性能测量 | 第40页 |
2.3.10 力学性能测试 | 第40-41页 |
2.3.11 热学性能分析 | 第41-42页 |
第3章 反溅辅助磁控溅射氧化铝薄膜的结构和性能 | 第42-59页 |
3.1 引言 | 第42页 |
3.2 生长速率 | 第42-43页 |
3.3 成分和化学键合态分析 | 第43-46页 |
3.3.1 EDX 分析 | 第43-44页 |
3.3.2 XPS 定量分析 | 第44-45页 |
3.3.3 O/Al 成分比例 | 第45页 |
3.3.4 化学键合态 | 第45-46页 |
3.4 结构分析 | 第46-49页 |
3.4.1 表面形貌 | 第46-47页 |
3.4.2 晶体结构 | 第47-49页 |
3.5 反溅辅助优化工艺 | 第49-55页 |
3.5.1 晶体结构 | 第49-51页 |
3.5.2 力学性能 | 第51-53页 |
3.5.3 光学性能 | 第53-55页 |
3.6 低温晶化机制分析 | 第55-57页 |
3.7 本章小结 | 第57-59页 |
第4章 纳米多层铜(钼)/氧化铝薄膜的结构特性 | 第59-88页 |
4.1 引言 | 第59页 |
4.2 金属铜(钼)膜层性能 | 第59-71页 |
4.2.1 生长速率 | 第59-61页 |
4.2.2 表面形貌 | 第61-66页 |
4.2.3 晶体结构 | 第66-71页 |
4.3 铜(钼)/氧化铝多层膜体系 | 第71-86页 |
4.3.1 晶体结构 | 第71-76页 |
4.3.2 密度和层合结构分析 | 第76-83页 |
4.3.3 金属/氧化铝界面结构研究 | 第83-86页 |
4.4 本章小结 | 第86-88页 |
第5章 纳米多层铜(钼)/氧化铝膜的性能 | 第88-111页 |
5.1 引言 | 第88页 |
5.2 多层膜力学性能 | 第88-95页 |
5.2.1 纳米硬度 | 第88-90页 |
5.2.2 划擦行为 | 第90-95页 |
5.3 多层膜热学性能 | 第95-109页 |
5.3.1 热传导性能 | 第95-101页 |
5.3.2 热传导机理分析 | 第101-105页 |
5.3.3 热稳定性 | 第105-109页 |
5.4 本章小结 | 第109-111页 |
结论 | 第111-114页 |
参考文献 | 第114-130页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第130-132页 |
致谢 | 第132-133页 |
个人简历 | 第133页 |