| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1. 本文背景及研究意义 | 第9页 |
| 1.2. 先进高精度表面加工方法的介绍 | 第9-12页 |
| 1.2.1 浴法抛光 | 第9-10页 |
| 1.2.2 浮法抛光 | 第10页 |
| 1.2.3 离子束抛光 | 第10页 |
| 1.2.4 聚四氟乙烯抛光 | 第10-11页 |
| 1.2.5 等离子体辅助抛光 | 第11页 |
| 1.2.6 磁流变抛光 | 第11-12页 |
| 1.2.7 磨粒弹射溅射抛光 | 第12页 |
| 1.3. 高精度、低粗糙度光学零器件应用 | 第12-13页 |
| 1.4. 平面反射镜加工工艺的选择 | 第13-14页 |
| 1.5. 本课题研究的方向 | 第14-15页 |
| 第二章 面形检测手段的研究与选用 | 第15-23页 |
| 2.1 样板检测 | 第16-18页 |
| 2.1.1 样板检验原理 | 第16页 |
| 2.1.2 光圈的识别与度量 | 第16页 |
| 2.1.3 光圈的识别（高低光圈的区别） | 第16页 |
| 2.1.4 光圈代号 | 第16-17页 |
| 2.1.5 光圈的度量 | 第17页 |
| 2.1.6 像散光圈△1N的度量 | 第17-18页 |
| 2.1.7 局部光圈数△2N的度量 | 第18页 |
| 2.2 激光干涉仪及其面形检测原理 | 第18-22页 |
| 2.2.1 干涉仪定义及其组成 | 第18-19页 |
| 2.2.2 干涉仪原理 | 第19页 |
| 2.2.3 激光干涉仪进行面形检测时常用的技术参数 | 第19-20页 |
| 2.2.4 激光干涉仪面形检测结果与N、△N 的对比及分析 | 第20-21页 |
| 2.2.4.1 国际波长下POWER、PV等与N、△N 的关系 | 第20页 |
| 2.2.4.2 633nm波长下POWER、PV等与N、△N 的关系 | 第20-21页 |
| 2.2.5 实际生产中Zygo与样板检测之间的差别 | 第21-22页 |
| 2.3 小结 | 第22-23页 |
| 第三章 高精度平面反射镜抛光工艺的探讨 | 第23-33页 |
| 3.1 压制抛光模具 | 第23-27页 |
| 3.1.1 压模前的预处理 | 第25页 |
| 3.1.2 “刮模”的关键技术 | 第25-27页 |
| 3.2 抛光剂的选用 | 第27-28页 |
| 3.3 抛光 | 第28-30页 |
| 3.3.1 抛光液浓度和PH值 | 第29页 |
| 3.3.2 抛光粉的添加 | 第29-30页 |
| 3.4 脱模和清洗 | 第30-31页 |
| 3.4.1 脱模 | 第30页 |
| 3.4.2 清洗 | 第30-31页 |
| 3.5 抛光过程需要重点注意的核心点 | 第31-32页 |
| 3.6 小结 | 第32-33页 |
| 第四章 面形在镀膜工艺中的控制 | 第33-43页 |
| 4.1 薄膜应力对面形的影响 | 第34-37页 |
| 4.1.1 薄膜应力产生的原理 | 第34页 |
| 4.1.2 薄膜应力与面形变化的对应关系 | 第34-35页 |
| 4.1.3 薄膜应力对面形影响的控制 | 第35-37页 |
| 4.2 膜系设计与面形的关系 | 第37-40页 |
| 4.2.1 干扰因素的确定 | 第37-39页 |
| 4.2.2 膜系设计对面形测量的影响 | 第39页 |
| 4.2.3 优化后的膜系 | 第39-40页 |
| 4.3 镀膜夹具档边对面形的影响 | 第40-42页 |
| 4.4 其它因素对面形造成的影响 | 第42页 |
| 4.5 小结 | 第42-43页 |
| 第五章 总结与展望 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47页 |
