等离子体壁处理技术对第一壁性能的影响
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 引言(磁约束聚变的发展) | 第11-19页 |
| 1.1.1 仿星器(Stellarator) | 第12-13页 |
| 1.1.2 托卡马克(Tokamak) | 第13-16页 |
| 1.1.3 其他磁约束聚变装置 | 第16-19页 |
| 1.2 超导托卡马克 | 第19-23页 |
| 1.2.1 EAST超导磁体系统 | 第20-21页 |
| 1.2.2 EAST真空室及偏滤器 | 第21-22页 |
| 1.2.3 加热系统 | 第22页 |
| 1.2.4 加料系统 | 第22-23页 |
| 1.2.5 诊断系统 | 第23页 |
| 1.2.6 EAST的一些主要进展 | 第23页 |
| 1.3 EAST真空及壁处理系统介绍 | 第23-25页 |
| 1.4 本文研究内容和意义 | 第25-27页 |
| 第二章 杂质与壁材料对等离子体性能的影响 | 第27-35页 |
| 2.1 杂质对等离子体性能的影响 | 第27-31页 |
| 2.1.1 杂质对等离子体性能的负面影响 | 第28-29页 |
| 2.1.2 杂质对等离子体性能的积极作用 | 第29-31页 |
| 2.2 不同第一壁材料对等离子体性能的影响 | 第31-33页 |
| 2.2.1 低Z材料对等离子体性能的影响 | 第32-33页 |
| 2.2.2 高Z材料对等离子体性能的影响 | 第33页 |
| 2.2.3 中等原子质量材料对等离子体性能的影响 | 第33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 壁处理对等离子体性能的影响 | 第35-56页 |
| 3.1 烘烤 | 第36-40页 |
| 3.1.1 烘烤 | 第36-37页 |
| 3.1.2 烘烤在EAST上的应用 | 第37-40页 |
| 3.2 清洗放电 | 第40-48页 |
| 3.2.1 辉光放电清洗、 | 第41-44页 |
| 3.2.2 离子回旋放电清洗 | 第44-48页 |
| 3.3 涂层 | 第48-54页 |
| 3.3.1 涂层技术 | 第48-49页 |
| 3.3.2 硼化、硅化在EAST上的应用 | 第49-51页 |
| 3.3.3 锂化在EAST上的应用 | 第51-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 破裂对EAST第一壁的影响 | 第56-63页 |
| 4.1 EAST排气分析的一般性介绍 | 第56-58页 |
| 4.1.1 分析方法 | 第56页 |
| 4.1.2 典型的壁排气 | 第56-58页 |
| 4.2 破裂放电对EAST第一壁的影响 | 第58-61页 |
| 4.2.1 破裂放电对燃料的影响 | 第58-59页 |
| 4.2.2 破裂放电对杂质的影响 | 第59-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 总结 | 第63-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第70页 |
