| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| 1.1 研究发射率的意义 | 第9-10页 |
| 1.2 红外辐射的一些基本方法 | 第10-11页 |
| 1.3 本文研究的主要内容 | 第11-13页 |
| 第二章 红外辐射的基本理论及实践应用 | 第13-21页 |
| 2.1 红外辐射的基本规律 | 第13-17页 |
| 2.1.1 红外辐射的产生 | 第13-14页 |
| 2.1.2 基尔霍夫定律 | 第14-15页 |
| 2.1.3 黑体辐射 | 第15-17页 |
| 2.2 红外辐射 | 第17-18页 |
| 2.2.1 红外辐射的应用 | 第17-18页 |
| 2.2.2 红外测温技术 | 第18页 |
| 2.3 光的基本特性 | 第18-21页 |
| 2.3.1 光的本质 | 第18-19页 |
| 2.3.2 光的分类 | 第19-21页 |
| 第三章 测量材料发射率的实验装置和影响发射率的因素 | 第21-31页 |
| 3.1 测量发射率的实验装置 | 第21-25页 |
| 3.1.1 加热系统 | 第22页 |
| 3.1.2 探测系统 | 第22-23页 |
| 3.1.3 控制与显示系统 | 第23页 |
| 3.1.4 实验操作 | 第23-24页 |
| 3.1.5 试验装置的优缺点 | 第24-25页 |
| 3.2 影响发射率的因素 | 第25-31页 |
| 3.2.1 材料对发射率的影响 | 第26页 |
| 3.2.2 温度对材料发射率的影响 | 第26-27页 |
| 3.2.3 材料表面对发射率的影响 | 第27-28页 |
| 3.2.4 测量环境的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.5 表面氧化对发射率的影 | 第29-31页 |
| 第四章 紫铜T2的表面氧化对发射率的影响 | 第31-45页 |
| 4.1 引言 | 第31-32页 |
| 4.2 测量原理和试验装置的工作原理 | 第32-36页 |
| 4.2.1 实验原理 | 第32-34页 |
| 4.2.2 实验装置的工作原理 | 第34-36页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第36-43页 |
| 4.3.1 实验过程 | 第36-37页 |
| 4.3.2 光谱发射率的强烈振动 | 第37-39页 |
| 4.3.3 表面氧化导致光谱发射率的不确定 | 第39-41页 |
| 4.3.4 光谱发射率与加热时间的模型 | 第41-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 表面氧化对铝 3A21的发射率的影响 | 第45-53页 |
| 5.1 引言 | 第45-46页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第46-51页 |
| 5.2.1 加热时间对光谱发射率的影响 | 第47-50页 |
| 5.2.2 温度对光谱发射率的影响 | 第50-51页 |
| 5.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第六章 结论与展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第64-66页 |