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图形化FeCoBSi薄膜的制备及其高频磁性能研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-16页
    1.1 磁性薄膜材料的应用背景第11-12页
    1.2 金属铁磁薄膜研究现状第12-14页
        1.2.1 磁性颗粒膜第12页
        1.2.2 磁性多层膜第12-13页
        1.2.3 磁性图形化膜第13-14页
    1.3 本论文研究意义和主要内容第14-16页
第二章 磁性薄膜材料基础及制备表征方法第16-29页
    2.1 技术磁化第16-18页
        2.1.1 畴壁位移磁化机制第16-17页
        2.1.2 畴转磁化机制第17-18页
    2.2 动态磁化第18-20页
        2.2.1 复数磁导率第18页
        2.2.2 动态磁化畴壁位移共振第18-19页
        2.2.3 动态磁化磁畴自然共振第19-20页
    2.3 微磁学简介第20-23页
        2.3.1 微磁学中的能量形式第20-21页
        2.3.2 OOMMF仿真软件简介第21-23页
    2.4 铁磁薄膜制备方法第23-24页
    2.5 薄膜图形化工艺第24-26页
        2.5.1 光刻工艺第24页
        2.5.2 刻蚀工艺第24-25页
        2.5.3 剥离工艺第25-26页
    2.6 铁磁薄膜表征手段第26-28页
        2.6.1 台阶仪与扫描电子显微镜第26页
        2.6.2 X射线衍射仪第26页
        2.6.3 铁磁薄膜静磁参数表征第26-27页
        2.6.4 铁磁薄膜微波磁导率测试系统第27-28页
    2.7 本章小结第28-29页
第三章 连续FeCoBSi薄膜制备及其电磁性能研究第29-38页
    3.1 连续FeCoBSi薄膜制备研究第29-32页
        3.1.1 FeCoBSi薄膜制备工艺第29页
        3.1.2 FeCoBSi薄膜厚度及成分分析第29-30页
        3.1.3 FeCoBSi薄膜晶体结构与电性能分析第30-32页
    3.2 膜厚对FeCoBSi薄膜静磁参数的影响第32-34页
    3.3 膜厚对FeCoBSi薄膜微波磁导率的影响第34页
    3.4 外加诱导磁场对FeCoBSi薄膜磁性能的影响第34-37页
    3.5 本章小结第37-38页
第四章 图形化铁磁薄膜的微磁学仿真第38-52页
    4.1 OOMMF实现磁谱仿真的方法第38-39页
    4.2 条纹图形化铁磁薄膜的磁谱仿真第39-43页
        4.2.1 条纹宽度的影响第40-41页
        4.2.2 条纹间距的影响第41页
        4.2.3 条纹厚度的影响第41-42页
        4.2.4 条纹参数对突破斯洛克极限能力的影响第42-43页
    4.3 组合条纹图形化薄膜仿真设计第43-47页
        4.3.1 数目比为1的组合条纹设计第44-45页
        4.3.2 组合条纹多峰共振的优化第45-47页
    4.4 方孔阵列图形化的仿真设计第47-51页
        4.4.1 方孔尺寸大小对磁谱的影响第47-49页
        4.4.2 厚度对方孔阵列磁谱的影响第49-51页
    4.5 本章小结第51-52页
第五章 图形化FeCoBSi薄膜的实验制备及磁性能研究第52-65页
    5.1 FeCoBSi图形化薄膜制备工艺第52-53页
    5.2 单一条纹图形化FeCoBSi薄膜的磁性能研究第53-60页
        5.2.1 条纹图形化薄膜形貌分析第53页
        5.2.2 条纹图形化FeCo BSi薄膜静磁性能研究第53-55页
        5.2.3 条纹图形化FeCo BSi薄膜微波性能研究第55-60页
    5.3 组合条纹图形化FeCoBSi薄膜的磁性能研究第60-64页
        5.3.1 双组合条纹的实验制备及性能研究第60-63页
        5.3.2 多组合条纹的频带展宽效应第63-64页
    5.4 本章小结第64-65页
第六章 结论与展望第65-67页
    6.1 结论第65-66页
    6.2 展望第66-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-71页
攻读硕士期间取得的与学位论文相关的研究成果第71-72页

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