摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-16页 |
1.1 磁性薄膜材料的应用背景 | 第11-12页 |
1.2 金属铁磁薄膜研究现状 | 第12-14页 |
1.2.1 磁性颗粒膜 | 第12页 |
1.2.2 磁性多层膜 | 第12-13页 |
1.2.3 磁性图形化膜 | 第13-14页 |
1.3 本论文研究意义和主要内容 | 第14-16页 |
第二章 磁性薄膜材料基础及制备表征方法 | 第16-29页 |
2.1 技术磁化 | 第16-18页 |
2.1.1 畴壁位移磁化机制 | 第16-17页 |
2.1.2 畴转磁化机制 | 第17-18页 |
2.2 动态磁化 | 第18-20页 |
2.2.1 复数磁导率 | 第18页 |
2.2.2 动态磁化畴壁位移共振 | 第18-19页 |
2.2.3 动态磁化磁畴自然共振 | 第19-20页 |
2.3 微磁学简介 | 第20-23页 |
2.3.1 微磁学中的能量形式 | 第20-21页 |
2.3.2 OOMMF仿真软件简介 | 第21-23页 |
2.4 铁磁薄膜制备方法 | 第23-24页 |
2.5 薄膜图形化工艺 | 第24-26页 |
2.5.1 光刻工艺 | 第24页 |
2.5.2 刻蚀工艺 | 第24-25页 |
2.5.3 剥离工艺 | 第25-26页 |
2.6 铁磁薄膜表征手段 | 第26-28页 |
2.6.1 台阶仪与扫描电子显微镜 | 第26页 |
2.6.2 X射线衍射仪 | 第26页 |
2.6.3 铁磁薄膜静磁参数表征 | 第26-27页 |
2.6.4 铁磁薄膜微波磁导率测试系统 | 第27-28页 |
2.7 本章小结 | 第28-29页 |
第三章 连续FeCoBSi薄膜制备及其电磁性能研究 | 第29-38页 |
3.1 连续FeCoBSi薄膜制备研究 | 第29-32页 |
3.1.1 FeCoBSi薄膜制备工艺 | 第29页 |
3.1.2 FeCoBSi薄膜厚度及成分分析 | 第29-30页 |
3.1.3 FeCoBSi薄膜晶体结构与电性能分析 | 第30-32页 |
3.2 膜厚对FeCoBSi薄膜静磁参数的影响 | 第32-34页 |
3.3 膜厚对FeCoBSi薄膜微波磁导率的影响 | 第34页 |
3.4 外加诱导磁场对FeCoBSi薄膜磁性能的影响 | 第34-37页 |
3.5 本章小结 | 第37-38页 |
第四章 图形化铁磁薄膜的微磁学仿真 | 第38-52页 |
4.1 OOMMF实现磁谱仿真的方法 | 第38-39页 |
4.2 条纹图形化铁磁薄膜的磁谱仿真 | 第39-43页 |
4.2.1 条纹宽度的影响 | 第40-41页 |
4.2.2 条纹间距的影响 | 第41页 |
4.2.3 条纹厚度的影响 | 第41-42页 |
4.2.4 条纹参数对突破斯洛克极限能力的影响 | 第42-43页 |
4.3 组合条纹图形化薄膜仿真设计 | 第43-47页 |
4.3.1 数目比为1的组合条纹设计 | 第44-45页 |
4.3.2 组合条纹多峰共振的优化 | 第45-47页 |
4.4 方孔阵列图形化的仿真设计 | 第47-51页 |
4.4.1 方孔尺寸大小对磁谱的影响 | 第47-49页 |
4.4.2 厚度对方孔阵列磁谱的影响 | 第49-51页 |
4.5 本章小结 | 第51-52页 |
第五章 图形化FeCoBSi薄膜的实验制备及磁性能研究 | 第52-65页 |
5.1 FeCoBSi图形化薄膜制备工艺 | 第52-53页 |
5.2 单一条纹图形化FeCoBSi薄膜的磁性能研究 | 第53-60页 |
5.2.1 条纹图形化薄膜形貌分析 | 第53页 |
5.2.2 条纹图形化FeCo BSi薄膜静磁性能研究 | 第53-55页 |
5.2.3 条纹图形化FeCo BSi薄膜微波性能研究 | 第55-60页 |
5.3 组合条纹图形化FeCoBSi薄膜的磁性能研究 | 第60-64页 |
5.3.1 双组合条纹的实验制备及性能研究 | 第60-63页 |
5.3.2 多组合条纹的频带展宽效应 | 第63-64页 |
5.4 本章小结 | 第64-65页 |
第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
6.1 结论 | 第65-66页 |
6.2 展望 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-71页 |
攻读硕士期间取得的与学位论文相关的研究成果 | 第71-72页 |