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高压直流导线表面污秽对合成电场影响的实验研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第1章 绪论第10-17页
    1.1 课题背景及意义第10页
    1.2 国内外研究现状第10-16页
        1.2.1 电晕放电合成电场及离子流密度第11-12页
        1.2.2 导线起晕场强和表面粗糙系数第12-13页
        1.2.3 导线表面状态分析方法第13-16页
    1.3 本论文主要研究内容第16-17页
第2章 实验平台设置及实验方法第17-25页
    2.1 室内小电晕笼介绍第17-19页
        2.1.1 基本原理及结构第17页
        2.1.2 本文采用的电晕笼第17-19页
    2.2 模拟积污实验平台的设计与搭建第19-22页
        2.2.1 模拟积污实验平台的结构第19-20页
        2.2.2 颗粒物扬洒系统第20-22页
    2.3 实验仪器第22页
    2.4 测试系统第22-24页
        2.4.1 紫外光子数第23页
        2.4.2 合成场强第23-24页
        2.4.3 离子流密度第24页
    2.5 本章小结第24-25页
第3章 人工涂污导线的表面状态分析第25-37页
    3.1 导线表面状态分析方法第25-27页
        3.1.1 实验污秽的选取及导线样本的制备第25页
        3.1.2 导线表面形貌的测量方法第25-26页
        3.1.3 导线表面粗糙程度的测量方法第26-27页
    3.2 导线样本状态的分析第27-35页
        3.2.1 导线样本的SEM图第27-31页
        3.2.2 导线样本的物质成分第31-32页
        3.2.3 导线样本的三维轮廓图第32-35页
        3.2.4 导线样本的粗糙程度计算第35页
    3.3 本章小结第35-37页
第4章 人工涂污导线的电晕特性第37-49页
    4.1 不同厚度的均匀污秽对电晕特性的影响第37-41页
        4.1.1 紫外光子数第38-39页
        4.1.2 合成电场强度第39-40页
        4.1.3 离子流密度第40-41页
        4.1.4 结果分析第41页
    4.2 不同种类的均匀污秽对电晕特性的影响第41-45页
        4.2.1 紫外光子数第42-43页
        4.2.2 合成电场强度第43-44页
        4.2.3 离子流密度第44页
        4.2.4 结果分析第44-45页
    4.3 不均匀污秽对电晕特性的影响第45-47页
    4.4 本章小结第47-49页
第5章 模拟积污导线的合成电场分析第49-60页
    5.1 模拟积污导线表面形貌对比第49-50页
    5.2 均匀污秽对合成电场的影响第50-53页
        5.2.1 合成电场和离子流密度第51-52页
        5.2.2 与人工涂污法的对比第52-53页
    5.3 不均匀污秽对合成电场的影响第53-55页
        5.3.1 合成电场和离子流密度第53-54页
        5.3.2 与人工涂污法的对比第54-55页
    5.4 污秽层对导线表面电场强度的影响分析第55-59页
        5.4.1 均匀污秽层第55-57页
        5.4.2 不均匀污秽层第57-59页
    5.5 本章小结第59-60页
第6章 结论与展望第60-62页
    6.1 结论第60-61页
    6.2 展望第61-62页
参考文献第62-65页
攻读硕士学位期间发表的论文及参加的科研工作第65-66页
致谢第66页

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