| 学位论文的主要创新点 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 激光熔覆技术 | 第10-11页 |
| 1.3 激光熔覆制备金属陶瓷颗粒增强金属基复合材料 | 第11-13页 |
| 1.4 激光熔覆制备非金属陶瓷颗粒增强金属基复合材料 | 第13-15页 |
| 1.4.1 非金属陶瓷颗粒与金属粉末熔覆的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.4.2 包覆型粉末的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.5 本文研究的主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 实验材料、设备及实验方法 | 第17-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第17-21页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第17页 |
| 2.1.2 熔覆材料 | 第17-18页 |
| 2.1.3 Ni包B_4C粉末的设计 | 第18-21页 |
| 2.2 实验设备及方法 | 第21-25页 |
| 2.2.1 激光熔覆实验设备 | 第21页 |
| 2.2.2 组织性能测试设备以及方法 | 第21-25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 激光熔覆Ni包B_4C涂层的制备及组织性能分析 | 第27-45页 |
| 3.1 扫描速度对熔覆涂层组织性能的影响 | 第27-35页 |
| 3.1.1 不同扫描速度熔覆涂层的制备及宏观形貌 | 第27-31页 |
| 3.1.2 不同扫描速度熔覆涂层的微观组织分析 | 第31-33页 |
| 3.1.3 扫描速度对涂层显微硬度及磨损性能的影响 | 第33-35页 |
| 3.2 激光功率对熔覆涂层组织性能的影响 | 第35-40页 |
| 3.2.1 不同功率熔覆涂层的制备及宏观形貌 | 第35-36页 |
| 3.2.2 不同功率熔覆涂层微观组织分析 | 第36-38页 |
| 3.2.3 激光功率对涂层显微硬度及磨损性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.3 搭接熔覆涂层组织性能分析 | 第40-44页 |
| 3.3.1 搭接率对熔覆层的影响 | 第40-42页 |
| 3.3.2 多层搭接熔覆 | 第42-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 激光熔覆金属基Ni包B_4C涂层的制备及组织性能分析 | 第45-59页 |
| 4.1 Fe基Ni包B_4C熔覆涂层的制备及组织性能分析 | 第45-51页 |
| 4.1.1 Fe基Ni包B_4C熔覆涂层的制备及宏观形貌 | 第45-47页 |
| 4.1.2 Fe基Ni包B_4C熔覆涂层的微观组织分析 | 第47-49页 |
| 4.1.3 Fe基Ni包B_4C熔覆层显微硬度及磨损性能分析 | 第49-51页 |
| 4.2 Co基Ni包B_4C熔覆涂层的制备及组织性能分析 | 第51-54页 |
| 4.2.1 Co基Ni包B_4C熔覆涂层的制备及宏观形貌 | 第51-52页 |
| 4.2.2 Co基Ni包B_4C熔覆涂层的微观组织分析 | 第52-53页 |
| 4.2.3 Co基Ni包B_4C熔覆层显微硬度及磨损性能分析 | 第53-54页 |
| 4.3 Ni基Ni包B_4C熔覆涂层的制备及组织性能分析 | 第54-58页 |
| 4.3.1 Ni基Ni包B_4C熔覆涂层的制备及宏观形貌 | 第54-56页 |
| 4.3.2 Ni基Ni包B_4C熔覆涂层的微观组织分析 | 第56-57页 |
| 4.3.3 Ni基Ni包B_4C熔覆层显微硬度及磨损性能分析 | 第57-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 激光熔覆Ni包B_4C界面耦合机制的研究 | 第59-73页 |
| 5.1 熔覆层与基体间的耦合 | 第59-62页 |
| 5.2 Ni包B_4C复合涂层的界面耦合 | 第62-71页 |
| 5.2.1 Ni包B_4C界面耦合 | 第64-66页 |
| 5.2.2 Fe基Ni包B_4C界面耦合 | 第66-68页 |
| 5.2.3 Co基Ni包B_4C界面耦合 | 第68-69页 |
| 5.2.4 Ni基镍包碳化硼界面耦合 | 第69-71页 |
| 5.3 本章小结 | 第71-73页 |
| 第六章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 6.1 总结 | 第73-74页 |
| 6.2 展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 发表论文和参加科研情况 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
