| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-8页 |
| 1 文献综述 | 第13-21页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 光催化技术原理与应用 | 第13-15页 |
| 1.2.1 光催化原理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 光催化技术的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 半导体光催化剂的改性 | 第15-18页 |
| 1.3.1 半导体光催化剂“异相结”的构建 | 第16页 |
| 1.3.2 半导体光催化剂“异质结”的构建 | 第16-17页 |
| 1.3.3 直接Z-型半导体光催化剂“异质结”的构建 | 第17-18页 |
| 1.4 光催化剂的性质及应用 | 第18-19页 |
| 1.4.1 三氧化钨（WO_3） | 第18页 |
| 1.4.2 金属钨酸盐(MWO_4) | 第18页 |
| 1.4.3 硫化铜(CuS) | 第18-19页 |
| 1.5 本课题的研究意义 | 第19-21页 |
| 2 实验部分 | 第21-29页 |
| 2.1 试剂与仪器 | 第21-22页 |
| 2.2 实验方法 | 第22-24页 |
| 2.2.1 单斜相WO_3基底的合成 | 第22页 |
| 2.2.2 浸渍法原位合成MWO_4/WO_3 (M = Cu、Zn、Ni) | 第22-23页 |
| 2.2.3 溶液法合成CuS-WO_3异质结可见光催化剂 | 第23页 |
| 2.2.4 单质法合成CuS-WO_3异质结可见光催化剂 | 第23-24页 |
| 2.3 催化剂表征 | 第24-25页 |
| 2.3.1 X-射线衍射(XRD) | 第24页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第24页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电镜(HR-TRM) | 第24页 |
| 2.3.4 紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-Vis DRS) | 第24-25页 |
| 2.3.5 X-射线光电子能谱(XPS) | 第25页 |
| 2.3.6 比表面积测试(BET) | 第25页 |
| 2.3.7 荧光光谱(PL) | 第25页 |
| 2.4 催化剂光催化性能的测试 | 第25-27页 |
| 2.4.1 可见光下测试催化剂光催化活性 | 第25-27页 |
| 2.4.2 循环实验测试催化剂化学稳定性 | 第27页 |
| 2.5 光催化反应中活性物种的分析 | 第27-29页 |
| 2.5.1 捕获剂法分析光催化反应中活性物种 | 第27页 |
| 2.5.2 NBT转化法测定·O_2~-自由基 | 第27页 |
| 2.5.3 对苯二甲酸荧光分光光度法检测·OH自由基 | 第27-29页 |
| 3 浸渍法MWO_4/WO_3 (M = Cu、Zn、Ni)异质结的构建及光催化性能与活性物种分析 | 第29-47页 |
| 3.1 前言 | 第29页 |
| 3.2 浸渍法CuWO_4/WO_3异质结的构建及光催化性能与活性物种分析 | 第29-36页 |
| 3.2.1 浸渍法CuWO_4/WO_3催化剂的结构分析 | 第29-30页 |
| 3.2.2 浸渍法CuWO_4/WO_3催化剂的形貌分析 | 第30-31页 |
| 3.2.3 浸渍法CuWO_4/WO_3催化剂的光学性质分析 | 第31-33页 |
| 3.2.4 浸渍法CuWO_4/WO_3催化剂的可见光催化性能分析 | 第33-35页 |
| 3.2.5 浸渍法CuWO_4/WO_3催化剂的光催化反应中活性物种分析 | 第35-36页 |
| 3.3 浸渍法ZnWO_4/WO_3异质结的构建及光催化性能与活性物种分析 | 第36-41页 |
| 3.3.1 浸渍法ZnWO_4/WO_3催化剂的结构分析 | 第36-37页 |
| 3.3.2 浸渍法ZnWO_4/WO_3催化剂的形貌分析 | 第37-39页 |
| 3.3.3 浸渍法ZnWO_4/WO_3催化剂的光学性质分析 | 第39页 |
| 3.3.4 浸渍法ZnWO_4/WO_3催化剂的可见光催化性能分析 | 第39-40页 |
| 3.3.5 浸渍法ZnWO_4/WO_3催化剂的光催化反应中活性物种分析 | 第40-41页 |
| 3.4 浸渍法NiWO_4/WO_3异质结的构建及光催化性能与活性物种分析 | 第41-45页 |
| 3.4.1 浸渍法NiWO_4/WO_3催化剂的结构分析 | 第41-42页 |
| 3.4.2 浸渍法NiWO_4/WO_3催化剂的形貌分析 | 第42-43页 |
| 3.4.3 浸渍法NiWO_4/WO_3催化剂的光学性质分析 | 第43页 |
| 3.4.4 浸渍法NiWO_4/WO_3催化剂的可见光催化性能分析 | 第43-44页 |
| 3.4.5 浸渍法NiWO_4/WO_3催化剂的光催化反应中活性物种分析 | 第44-45页 |
| 3.5 小结 | 第45-47页 |
| 4 溶液法CuS-WO_3异质结的构建及光催化性能与活性物种分析 | 第47-59页 |
| 4.1 前言 | 第47页 |
| 4.2 溶液法CuS-WO_3催化剂的结构分析 | 第47-49页 |
| 4.2.1 X-射线衍射光谱(XRD)分析 | 第47-48页 |
| 4.2.2 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第48-49页 |
| 4.3 溶液法CuS-WO_3催化剂的形貌分析 | 第49-50页 |
| 4.3.1 扫描电镜图谱(SEM)分析 | 第49-50页 |
| 4.4 溶液法CuS-WO_3催化剂的光学性能分析 | 第50-52页 |
| 4.4.1 紫外-可见漫反射(UV-Vis DRS)分析 | 第50-51页 |
| 4.4.2 荧光光谱（PL）分析 | 第51-52页 |
| 4.5 溶液法CuS-WO_3催化剂的可见光催化性能分析 | 第52-55页 |
| 4.5.1 溶液法CuS-WO_3可见光下光催化降解RhB的活性分析 | 第52-54页 |
| 4.5.2 溶液法CuS-WO_3光化学稳定性分析 | 第54-55页 |
| 4.6 溶液法CuS-WO_3催化剂的光催化反应中活性物种分析 | 第55-56页 |
| 4.6.1 捕获剂分析溶液法CuS-WO_3催化剂光催化反应中活性物种 | 第55页 |
| 4.6.2 NBT转化法检测·O_2~-自由基 | 第55-56页 |
| 4.7 溶液法CuS-WO_3催化剂的光催化反应机理研究 | 第56-57页 |
| 4.8 小结 | 第57-59页 |
| 5 单质法CuS-WO_3异质结的构建及光催化性能与活性物种分析性 | 第59-69页 |
| 5.1 前言 | 第59页 |
| 5.2 单质法CuS-WO_3催化剂的结构分析 | 第59-60页 |
| 5.2.1 X-射线衍射光谱(XRD)分析 | 第59-60页 |
| 5.2.2 X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第60页 |
| 5.3 单质法CuS-WO_3催化剂的形貌分析 | 第60-62页 |
| 5.3.1 扫描电镜图谱(SEM)分析 | 第60-62页 |
| 5.4 单质法CuS-WO_3催化剂的光学性能分析 | 第62-64页 |
| 5.4.1 紫外-可见漫反射(UV-Vis DRS)分析 | 第62-63页 |
| 5.4.2 荧光光谱（PL）分析 | 第63-64页 |
| 5.5 单质法CuS-WO_3催化剂的可见光催化性质分析 | 第64-65页 |
| 5.6 单质法CuS-WO_3催化剂光催化反应中活性物种分析 | 第65-66页 |
| 5.7 单质法CuS-WO_3催化剂的光催化反应机理研究 | 第66页 |
| 5.8 小结 | 第66-69页 |
| 6 结论 | 第69-71页 |
| 符号说明 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第85-87页 |
| 攻读硕士学位期间参与的科研项目情况 | 第87-88页 |
| 附件 1 | 第88-91页 |
| 附件 2 | 第91-94页 |
