摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第12-30页 |
1.1 钍资源利用 | 第12-13页 |
1.2 钍与熔盐堆 | 第13-14页 |
1.3 干法后处理技术发展现状 | 第14-21页 |
1.3.1 氟化物挥发技术 | 第15-16页 |
1.3.2 减压蒸馏技术 | 第16-17页 |
1.3.3 熔盐电化学分离技术 | 第17-20页 |
1.3.4 金属还原萃取技术 | 第20-21页 |
1.4 熔盐堆在线后处理流程国内外研究现状 | 第21-25页 |
1.5 钍的熔盐电化学研究现状 | 第25-28页 |
1.5.1 电化学研究熔盐体系 | 第25-26页 |
1.5.2 Th(Ⅳ)的电极反应 | 第26页 |
1.5.3 Th(Ⅳ)的还原峰电位及扩散系数 | 第26-28页 |
1.6 本课题的提出与研究内容 | 第28-30页 |
第二章 实验部分 | 第30-36页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第30-31页 |
2.2 实验装置 | 第31-32页 |
2.2.1 电极体系 | 第31-32页 |
2.2.2 实验主要设备 | 第32页 |
2.3 电化学实验测试方法 | 第32-34页 |
2.4 分析与表征 | 第34-36页 |
第三章 ThF_4-LiCl-KCl熔盐的制备与表征 | 第36-43页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 LiCl-KCl空白熔盐的制备与分析 | 第36-38页 |
3.2.1 LiCl-KCl空白熔盐制备 | 第36-37页 |
3.2.2 LiCl-KCl空白熔盐分析 | 第37-38页 |
3.3 ThF_4-LiF-KF-LiCl-KCl熔盐的制备与分析 | 第38-41页 |
3.3.1 不同[F-]/[Th(Ⅳ)]比值的ThF_4-LiF-KF-LiCl-KCl熔盐制备 | 第38-39页 |
3.3.2 ThF_4-LiF-KF-LiCl-KCl熔盐分析 | 第39-41页 |
3.4 小结 | 第41-43页 |
第四章 ThF_4-Li Cl-KCl熔盐体系中F-浓度对Th(Ⅳ)电化学行为的影响 | 第43-59页 |
4.1 引言 | 第43页 |
4.2 实验方法 | 第43-44页 |
4.3 结果与讨论 | 第44-57页 |
4.3.1 电极反应机制 | 第44-47页 |
4.3.2 不同[F-]/[Th(Ⅳ)]下[Th(Ⅳ)]的电极反应 | 第47-52页 |
4.3.3 Th(Ⅳ)的扩散行为 | 第52-54页 |
4.3.4 扩散过程活化能 | 第54-55页 |
4.3.5 表观标准电极电位 | 第55-57页 |
4.4 本章小结 | 第57-59页 |
第五章 ThF_4-Li Cl-KCl熔盐体系中F-浓度对Th(Ⅳ)电解分离的影响 | 第59-68页 |
5.1 引言 | 第59页 |
5.2 实验方法 | 第59-60页 |
5.3 结果与讨论 | 第60-66页 |
5.3.1 电解过程与电解产物 | 第60-63页 |
5.3.2 F-浓度对Th(Ⅳ)扩散过程的影响 | 第63-66页 |
5.4 本章小结 | 第66-68页 |
第六章 总结与展望 | 第68-71页 |
参考文献 | 第71-82页 |
攻读硕士学位期间论文发表情况 | 第82-83页 |
致谢 | 第83页 |