| 中文摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 低辐射玻璃 | 第10-16页 |
| 1.2.1 低辐射玻璃的节能原理 | 第10-12页 |
| 1.2.2 低辐射玻璃的性能特点 | 第12-13页 |
| 1.2.3 低辐射玻璃的膜系结构 | 第13-14页 |
| 1.2.4 低辐射玻璃的生产工艺 | 第14-16页 |
| 1.3 低辐射玻璃研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3.1 低辐射玻璃的发展历史 | 第16-17页 |
| 1.3.2 氮化铝钨薄膜 | 第17-18页 |
| 1.4 本课题研究目的及意义 | 第18页 |
| 1.5 本课题主要研究内容 | 第18-20页 |
| 2 材料及实验方法 | 第20-28页 |
| 2.1 实验材料与试剂 | 第20页 |
| 2.2 实验装置与设备 | 第20-21页 |
| 2.3 薄膜的制备 | 第21-23页 |
| 2.3.1 基片预处理 | 第21-22页 |
| 2.3.2 薄膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.4 薄膜的表征测试 | 第23-28页 |
| 2.4.1 薄膜厚度及表面粗糙度测试 | 第23页 |
| 2.4.2 薄膜的可见光透过率测试 | 第23-24页 |
| 2.4.3 薄膜的红外反射率测试 | 第24页 |
| 2.4.4 薄膜的方块电阻测试 | 第24-25页 |
| 2.4.5 薄膜的表面形貌分析 | 第25-26页 |
| 2.4.6 薄膜的晶体结构分析 | 第26页 |
| 2.4.7 薄膜的耐腐蚀测试 | 第26-28页 |
| 3 WAlN薄膜的制备及性能研究 | 第28-42页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 制备工艺参数对WAlN薄膜光学性能的影响 | 第28-37页 |
| 3.2.1 铝靶溅射功率对WAlN薄膜光学性能的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.2 钨靶溅射功率对WAlN薄膜光学性能的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.3 氮气流量对WAlN薄膜光学性能的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.4 溅射时间对WAlN薄膜光学性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.3 WAlN薄膜的红外反射率 | 第37-38页 |
| 3.4 WAlN薄膜的表面形貌分析 | 第38-39页 |
| 3.5 WAlN薄膜的晶型结构分析 | 第39-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-42页 |
| 4 WAlN/Ag/WAlN低辐射薄膜的制备及性能研究 | 第42-60页 |
| 4.1 前言 | 第42-43页 |
| 4.2 功能层Ag膜的制备与性能研究 | 第43-46页 |
| 4.2.1 银靶溅射功率对Ag膜光电性能的影响 | 第43-45页 |
| 4.2.2 溅射气压对Ag膜光电性能的影响 | 第45-46页 |
| 4.2.3 单层Ag膜的性能 | 第46页 |
| 4.3 WAlN/Ag/WAlN复合膜的制备与性能研究 | 第46-56页 |
| 4.3.1 薄膜的等倾干涉增透 | 第47-48页 |
| 4.3.2 介质层厚度对WAlN/Ag/WAlN复合膜透光率的影响 | 第48-50页 |
| 4.3.3 介质层厚度对WAlN/Ag/WAlN复合膜耐腐蚀性能的影响 | 第50-56页 |
| 4.4 WAlN/Ag/WAlN复合膜的辐射率 | 第56-58页 |
| 4.5 WAlN/Ag/WAlN复合膜的表面形貌 | 第58-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 5 结论及展望 | 第60-62页 |
| 5.1 结论 | 第60页 |
| 5.2 展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 附录 | 第68页 |
| A. 作者在攻读学位期间发表的论文目录： | 第68页 |
