摘要 | 第7-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 化学镀概述 | 第10-14页 |
1.1.1 化学镀的发展历史 | 第10页 |
1.1.2 镀液组分及其作用 | 第10-11页 |
1.1.3 化学镀机理 | 第11-12页 |
1.1.4 化学镀特点及其作用 | 第12-14页 |
1.2 热处理工艺对化学镀镍基合金镀层晶化的影响 | 第14-15页 |
1.2.1 炉内热处理 | 第14-15页 |
1.2.2 激光热处理 | 第15页 |
1.3 热处理工艺对化学镀镍基合金镀层性能的影响 | 第15-18页 |
1.3.1 炉内热处理 | 第15-17页 |
1.3.2 激光热处理 | 第17-18页 |
1.4 研究的目的、意义及内容 | 第18-20页 |
1.4.1 研究的目的及意义 | 第18页 |
1.4.2 研究内容 | 第18-20页 |
第二章 实验材料的制备及分析方法 | 第20-28页 |
2.1 实验材料的制备 | 第20-23页 |
2.1.1 试验设备 | 第20页 |
2.1.2 化学镀液的组成 | 第20-21页 |
2.1.3 化学镀液的配置工艺 | 第21-22页 |
2.1.4 工件材料及镀层预处理 | 第22-23页 |
2.1.5 化学镀层过程及工艺 | 第23页 |
2.1.6 镀层激光热处理工艺 | 第23页 |
2.2 实验分析方法 | 第23-25页 |
2.2.1 镀层成分分析及形貌观察 | 第23-24页 |
2.2.2 镀层结构的XRD定量分析 | 第24页 |
2.2.3 jade软件分析 | 第24-25页 |
2.3 试验测试方法 | 第25-28页 |
2.3.1 镀层显微硬度测试 | 第25页 |
2.3.2 腐蚀试验测试 | 第25-26页 |
2.3.3 镀层粗糙度测试 | 第26-28页 |
第三章 Ni-Mo-P合金镀层在激光处理工艺下的晶化特征 | 第28-42页 |
3.1 镀层的成分及形貌分析 | 第28-30页 |
3.1.1 EDS分析 | 第28页 |
3.1.2 SEM分析 | 第28-30页 |
3.2 镀层的XRD分析 | 第30-33页 |
3.2.1 镀态镀层的XRD分析 | 第30页 |
3.2.2 线光斑扫描镀层的XRD分析 | 第30-31页 |
3.2.3 圆光斑扫描镀层的XRD分析 | 第31-32页 |
3.2.4 两种激光工艺镀层XRD的对比 | 第32-33页 |
3.3 镀层的晶化程度 | 第33-38页 |
3.3.1 镀态镀层的晶化程度 | 第33-34页 |
3.3.2 线光斑扫描镀层的晶化程度 | 第34-35页 |
3.3.3 圆光斑扫描镀层的晶化程度 | 第35-37页 |
3.3.4 两种激光工艺镀层晶化特征的对比 | 第37-38页 |
3.4 镀层的晶粒尺寸 | 第38-42页 |
3.4.1 线光斑扫描镀层的晶粒尺寸 | 第38-39页 |
3.4.2 圆光斑扫描镀层的晶粒尺寸 | 第39-40页 |
3.4.3 两种激光工艺镀层晶粒尺寸的对比 | 第40-42页 |
第四章 激光处理工艺对Ni-Mo-P合金镀层硬度的影响 | 第42-48页 |
4.1 线光斑扫描镀层硬度 | 第42-44页 |
4.2 圆光斑扫描镀层硬度 | 第44-46页 |
4.3 两种激光处理工艺镀层硬度比较 | 第46-48页 |
第五章 激光处理工艺对Ni-Mo-P合金镀层腐蚀行为的影响 | 第48-62页 |
5.1 线光斑扫描镀层的腐蚀行为 | 第48-55页 |
5.1.1 Nyquist曲线及Bode图 | 第48-50页 |
5.1.2 等效电路拟合结果及其分析 | 第50-55页 |
5.2 圆光斑扫描镀层的腐蚀行为 | 第55-58页 |
5.2.1 Nyquist曲线及Bode图 | 第55-56页 |
5.2.2 等效电路拟合结果及其分析 | 第56-58页 |
5.3 两种激光处理工艺镀层腐蚀行为的比较 | 第58-62页 |
5.3.1 Nyquist曲线及Bode图对比 | 第58-60页 |
5.3.2 等效电路拟合结果对比 | 第60-62页 |
第六章 结论与展望 | 第62-64页 |
6.1 结论 | 第62-63页 |
6.2 展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-70页 |
致谢 | 第70-72页 |
在学期间主要研究成果 | 第72页 |
发表学术论文 | 第72页 |