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激光处理工艺对Ni-Mo-P合金镀层晶化及性能的影响

摘要第7-8页
ABSTRACT第8-9页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 化学镀概述第10-14页
        1.1.1 化学镀的发展历史第10页
        1.1.2 镀液组分及其作用第10-11页
        1.1.3 化学镀机理第11-12页
        1.1.4 化学镀特点及其作用第12-14页
    1.2 热处理工艺对化学镀镍基合金镀层晶化的影响第14-15页
        1.2.1 炉内热处理第14-15页
        1.2.2 激光热处理第15页
    1.3 热处理工艺对化学镀镍基合金镀层性能的影响第15-18页
        1.3.1 炉内热处理第15-17页
        1.3.2 激光热处理第17-18页
    1.4 研究的目的、意义及内容第18-20页
        1.4.1 研究的目的及意义第18页
        1.4.2 研究内容第18-20页
第二章 实验材料的制备及分析方法第20-28页
    2.1 实验材料的制备第20-23页
        2.1.1 试验设备第20页
        2.1.2 化学镀液的组成第20-21页
        2.1.3 化学镀液的配置工艺第21-22页
        2.1.4 工件材料及镀层预处理第22-23页
        2.1.5 化学镀层过程及工艺第23页
        2.1.6 镀层激光热处理工艺第23页
    2.2 实验分析方法第23-25页
        2.2.1 镀层成分分析及形貌观察第23-24页
        2.2.2 镀层结构的XRD定量分析第24页
        2.2.3 jade软件分析第24-25页
    2.3 试验测试方法第25-28页
        2.3.1 镀层显微硬度测试第25页
        2.3.2 腐蚀试验测试第25-26页
        2.3.3 镀层粗糙度测试第26-28页
第三章 Ni-Mo-P合金镀层在激光处理工艺下的晶化特征第28-42页
    3.1 镀层的成分及形貌分析第28-30页
        3.1.1 EDS分析第28页
        3.1.2 SEM分析第28-30页
    3.2 镀层的XRD分析第30-33页
        3.2.1 镀态镀层的XRD分析第30页
        3.2.2 线光斑扫描镀层的XRD分析第30-31页
        3.2.3 圆光斑扫描镀层的XRD分析第31-32页
        3.2.4 两种激光工艺镀层XRD的对比第32-33页
    3.3 镀层的晶化程度第33-38页
        3.3.1 镀态镀层的晶化程度第33-34页
        3.3.2 线光斑扫描镀层的晶化程度第34-35页
        3.3.3 圆光斑扫描镀层的晶化程度第35-37页
        3.3.4 两种激光工艺镀层晶化特征的对比第37-38页
    3.4 镀层的晶粒尺寸第38-42页
        3.4.1 线光斑扫描镀层的晶粒尺寸第38-39页
        3.4.2 圆光斑扫描镀层的晶粒尺寸第39-40页
        3.4.3 两种激光工艺镀层晶粒尺寸的对比第40-42页
第四章 激光处理工艺对Ni-Mo-P合金镀层硬度的影响第42-48页
    4.1 线光斑扫描镀层硬度第42-44页
    4.2 圆光斑扫描镀层硬度第44-46页
    4.3 两种激光处理工艺镀层硬度比较第46-48页
第五章 激光处理工艺对Ni-Mo-P合金镀层腐蚀行为的影响第48-62页
    5.1 线光斑扫描镀层的腐蚀行为第48-55页
        5.1.1 Nyquist曲线及Bode图第48-50页
        5.1.2 等效电路拟合结果及其分析第50-55页
    5.2 圆光斑扫描镀层的腐蚀行为第55-58页
        5.2.1 Nyquist曲线及Bode图第55-56页
        5.2.2 等效电路拟合结果及其分析第56-58页
    5.3 两种激光处理工艺镀层腐蚀行为的比较第58-62页
        5.3.1 Nyquist曲线及Bode图对比第58-60页
        5.3.2 等效电路拟合结果对比第60-62页
第六章 结论与展望第62-64页
    6.1 结论第62-63页
    6.2 展望第63-64页
参考文献第64-70页
致谢第70-72页
在学期间主要研究成果第72页
    发表学术论文第72页

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