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二维硒化铟材料物理性质的砷掺杂调制

中文摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-23页
    1.1 引言第10-12页
    1.2 硒化铟的结构和基本物理性质第12-16页
        1.2.1 硒化铟的结构第12-13页
        1.2.2 硒化铟的基本物理性质第13-16页
        1.2.3 硒化铟的制备第16页
    1.3 选题意义与主要内容第16-18页
    参考文献第18-23页
第二章 理论基础和计算方法第23-31页
    2.1 引言第23页
    2.2 密度泛函理论第23-28页
        2.2.1 Born-Oppenheimer近似第23-24页
        2.2.2 Thomas-Fermi模型第24-25页
        2.2.3 Hohenberg-Kohn定理第25页
        2.2.4 Kohn-Sham方程第25-27页
        2.2.5 交换关联泛函第27-28页
    2.3 计算软件ATK及VASP第28-30页
    参考文献第30-31页
第三章 在单层硒化铟中掺杂砷原子而引起的磁性和金属性第31-53页
    3.1 引言第31-32页
    3.2 计算模型和方法第32-33页
    3.3 在单层硒化铟中掺杂砷原子而引起的磁性和金属性第33-47页
        3.3.1 完美的和一侧的硒原子层全部替换为砷原子的单层硒化铟第33-35页
        3.3.2 一侧硒原子层中的部分硒原子替换为砷原子第35-42页
        3.3.3 在单层硒化铟的两侧进行砷原子的部分掺杂第42-43页
        3.3.4 2×2 和 4×4 的超晶胞模拟结果第43-47页
    3.4 本章小结第47-49页
    参考文献第49-53页
第四章 总结第53-55页
攻读硕士学位期间公开发表的论文第55-56页
致谢第56-57页

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