| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.2 节能镀膜玻璃的性能指标 | 第12-13页 |
| 1.3 节能镀膜玻璃的制备技术 | 第13-15页 |
| 1.3.1 离线镀膜技术 | 第13-14页 |
| 1.3.2 在线镀膜技术 | 第14-15页 |
| 1.3.3 在线镀膜与离线镀膜比较 | 第15页 |
| 1.4 TiN薄膜的性质及节能原理 | 第15-19页 |
| 1.4.1 TiN薄膜的理化性质 | 第15-16页 |
| 1.4.2 TiN的光学及电学性能 | 第16页 |
| 1.4.3 TiN节能原理 | 第16-19页 |
| 1.5 TiN薄膜的研究现状 | 第19页 |
| 1.6 课题的提出及研究意义 | 第19-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-27页 |
| 2.1 实验装置与样品制备 | 第22-23页 |
| 2.2 样品制备 | 第23-25页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第23-24页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第24页 |
| 2.2.3 镀膜样品制备的镀膜参数 | 第24-25页 |
| 2.3 镀膜样品的测试及表征手段 | 第25-27页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪 | 第25页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜分析 | 第25页 |
| 2.3.3 X射线能谱仪 | 第25-26页 |
| 2.3.4 薄膜的光学性能测试 | 第26页 |
| 2.3.5 薄膜的电学性能测试 | 第26-27页 |
| 第三章 具有阻隔紫外、遮阳及低辐射性能的多功能TiN_x薄膜的制备及性能研究 | 第27-51页 |
| 3.1 基板温度对TiN_x薄膜阻隔紫外、遮阳及低辐射性能的影响 | 第27-36页 |
| 3.1.1 基板温度对薄膜的组分及微观结构的影响 | 第27-30页 |
| 3.1.2 基板温度对薄膜阻隔紫外性能的影响 | 第30-32页 |
| 3.1.3 基板温度对薄膜遮阳性能的影响 | 第32-34页 |
| 3.1.4 基板温度对薄膜低辐射性能的影响 | 第34-36页 |
| 3.2 反应物TiCl_4流量对TiN_x薄膜阻隔紫外、遮阳及低辐射性能的影响 | 第36-40页 |
| 3.2.1 反应物TiCl_4流量对薄膜组分及微观结构的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.2 反应物TiCl_4的流量对薄膜阻隔紫外性能的影响 | 第38页 |
| 3.2.3 反应物TiCl_4的流量对薄膜遮阳性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.4 反应物TiCl_4的流量对薄膜的低辐射性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.3 反应物NH_3流量对TiN_x薄膜阻隔紫外、遮阳及低辐射性能的影响 | 第40-44页 |
| 3.3.1 反应物NH_3流量对薄膜的组分及微观结构的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2 反应物NH_3流量对薄膜阻隔紫外性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.3 反应物NH_3流量对薄膜遮阳性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.4 反应物NH_3流量对薄膜低辐射性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.4 基板的移动速率对TiN_x薄膜阻隔紫外、遮阳及低辐射性能的影响 | 第44-48页 |
| 3.4.1 基板的移动速率对薄膜的组分及微观形貌的影响 | 第44-47页 |
| 3.4.2 基板的移动速度对薄膜阻隔紫外性能的影响 | 第47页 |
| 3.4.3 基板的移动速度对薄膜遮阳性能的影响 | 第47-48页 |
| 3.4.4 基板的移动速率对薄膜低辐射性能的影响 | 第48页 |
| 3.5 小结 | 第48-51页 |
| 第四章 具有阻隔紫外、遮阳及低辐射性能的多功能TiO_2/FTO双层膜镀膜玻璃的制备及性能研究 | 第51-59页 |
| 4.1 底部FTO薄膜对顶部TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第52-53页 |
| 4.2 不同厚度的TiO_2薄膜对TiO_2/FTO双层膜阻隔紫外性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.3 不同厚度的TiO_2薄膜对TiO_2/FTO双层膜遮阳性能的影响 | 第54-57页 |
| 4.4 不同厚度的TiO_2薄膜对TiO_2/FTO双层膜的低辐射性能的影响 | 第57-58页 |
| 4.5 小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-61页 |
| 第六章 研究展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 附录 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
