煮糖结晶工艺的建模与控制研究
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-15页 |
| 1.1 课题背景与研究意义 | 第11-12页 |
| 1.2 本课题在国内外的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3 本文主要工作 | 第14-15页 |
| 2 煮糖结晶工艺概述 | 第15-28页 |
| 2.1 煮糖生产工艺过程 | 第15-19页 |
| 2.1.1 提汁 | 第15-16页 |
| 2.1.2 澄清 | 第16-17页 |
| 2.1.3 蒸发与加热 | 第17-18页 |
| 2.1.4 煮炼 | 第18-19页 |
| 2.2 蔗糖结晶机理 | 第19-21页 |
| 2.2.1 蔗糖结晶形成 | 第19-20页 |
| 2.2.2 养晶过程 | 第20-21页 |
| 2.3 影响蔗糖结晶的因素 | 第21-22页 |
| 2.4 过饱和溶液与过饱和系数 | 第22-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 过饱和度模型的建立 | 第28-40页 |
| 3.1 回归分析方法 | 第28-32页 |
| 3.1.1 多元线性回归模型 | 第28-29页 |
| 3.1.2 回归参数的最小二乘估计 | 第29-30页 |
| 3.1.3 非线性回归模型 | 第30页 |
| 3.1.4 回归方程的显著性检验 | 第30-32页 |
| 3.2 煮糖结晶Wright模型 | 第32-34页 |
| 3.2.1 Wright公式计算过饱和度 | 第32-34页 |
| 3.2.2 过饱和度模型中变量的选取 | 第34页 |
| 3.3 基于多元回归分析煮糖结晶模型的建立与检验 | 第34-38页 |
| 3.3.1 二次方回归模型 | 第34-35页 |
| 3.3.2 三次方回归模型 | 第35-36页 |
| 3.3.3 四次方回归模型 | 第36-37页 |
| 3.3.4 小范围内线性模型 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 4 模型参考自适应理论 | 第40-55页 |
| 4.1 自适应控制理论 | 第40-41页 |
| 4.1.1 自适应控制的定义 | 第40页 |
| 4.1.2 自适应控制系统的原理及类型 | 第40-41页 |
| 4.1.3 自适应控制的分类 | 第41页 |
| 4.2 模型参考自适应控制 | 第41-43页 |
| 4.2.1 模型参考自适应控制系统结构及原理 | 第41-42页 |
| 4.2.2 模型参考自适应控制系统的设计方法 | 第42-43页 |
| 4.3 模型参考自适应控制系统设计 | 第43-46页 |
| 4.4 仿真结果及分析 | 第46-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
