摘要 | 第3-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-29页 |
1.1 研究背景和目的 | 第10页 |
1.2 CO氧化研究的现状 | 第10-18页 |
1.2.1 贵金属型催化剂 | 第10-12页 |
1.2.2 复合氧化物催化剂 | 第12-13页 |
1.2.3 多孔材料基催化剂 | 第13-18页 |
1.2.3.1 非硅系多孔材料 | 第13-15页 |
1.2.3.2 硅系多孔材料 | 第15-18页 |
1.3 KCC-1 的研究现状 | 第18-19页 |
1.4 NO_x脱除的研究技术 | 第19-21页 |
1.4.1 NO_x存储还原催化净化技术 | 第19-20页 |
1.4.2 碳氢选择性催化还原(HC-SCR)技术 | 第20-21页 |
1.4.3 氨选择性-催化还原(NH_3-SCR)技术 | 第21页 |
1.5 氨选择性-催化技术(NH_3-SCR)研究现状 | 第21-26页 |
1.5.1 钒钛钨等金属氧化物催化剂 | 第22-24页 |
1.5.2 贵金属催化剂 | 第24-25页 |
1.5.3 分子筛催化剂 | 第25-26页 |
1.6 SSZ-13 的研究现状 | 第26-27页 |
1.7 本文研究内容及意义 | 第27-29页 |
第2章 实验方法与数据处理 | 第29-36页 |
2.1 仪器设备与原料试剂 | 第29-30页 |
2.1.1 仪器设备 | 第29-30页 |
2.1.2 原料试剂 | 第30页 |
2.2 样品表征 | 第30-33页 |
2.3.1 X射线衍射 | 第30-31页 |
2.3.2 N_2吸脱附分析 | 第31页 |
2.3.3 程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第31页 |
2.3.4 程序升温脱附(H_2-TPD) | 第31页 |
2.3.5 程序升温还原 | 第31-32页 |
2.3.6 扫描电镜 | 第32页 |
2.3.7 透射电镜 | 第32页 |
2.3.8 漫反射-紫外吸收光谱 | 第32页 |
2.3.9 X射线光电子能谱 | 第32-33页 |
2.3.10 原位红外测试 | 第33页 |
2.3 催化活性评价 | 第33-36页 |
2.4.1 NO_x选择性催化还原性能 | 第33-34页 |
2.4.2 催化剂活性评价基准 | 第34页 |
2.4.3 CO催化氧化性能 | 第34-36页 |
第3章 不同形貌介孔二氧化硅材料用于CO催化氧化反应:影响CO氧化反应的本质因素 | 第36-50页 |
3.1 制备材料 | 第36-37页 |
3.1.1 KCC-1、SBA-15、MCM-41、普通二氧化硅载体的制备 | 第36-37页 |
3.2 结果与讨论 | 第37-49页 |
3.2.1 活性测试 | 第37-39页 |
3.2.2 SEM测试 | 第39-40页 |
3.2.3 N_2-BET测试 | 第40-41页 |
3.2.4 XRD和H_2-TPR分析 | 第41-43页 |
3.2.5 XPS分析 | 第43-44页 |
3.2.6 TEM分析 | 第44-45页 |
3.2.7 H_2-TPD分析 | 第45页 |
3.2.8 寿命测试 | 第45-46页 |
3.2.9 CO氧化速率与银晶粒尺寸大小及H_2吸附能力大小讨论 | 第46-48页 |
3.2.10 银纳米颗粒大小与银负载量的讨论 | 第48-49页 |
3.3 本章小结 | 第49-50页 |
第4章 Mo改性Cu-SSZ-13 催化剂用于NO_x脱除 | 第50-63页 |
4.1 制备材料 | 第50-51页 |
4.1.1 H-SSZ-13 分子筛制备 | 第50-51页 |
4.1.2 催化剂制备 | 第51页 |
4.2 结果与讨论 | 第51-61页 |
4.2.1 SEM分析 | 第51-52页 |
4.2.2 活性测试 | 第52-53页 |
4.2.3 XRD分析 | 第53-54页 |
4.2.4 H_2-TPR分析 | 第54-55页 |
4.2.5 NH_3-TPD分析 | 第55-56页 |
4.2.6 N_2和N_2O选择性分析 | 第56-57页 |
4.2.7 XPS分析 | 第57-59页 |
4.2.8 原位红外分析 | 第59-60页 |
4.2.9 MoO3的作用机理分析 | 第60-61页 |
4.3 本章小结 | 第61-63页 |
第5章 结论和展望 | 第63-65页 |
5.1 结论 | 第63页 |
5.2 展望 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-78页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第78页 |