半导体激光熔覆WC增强Ni、Co基合金的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 研究背景及目的 | 第11-13页 |
| 1.2 激光熔覆工艺及装备 | 第13-14页 |
| 1.3 激光熔覆复合涂层研究现状 | 第14-18页 |
| 1.3.1 镍基合金与陶瓷复合涂层 | 第15-16页 |
| 1.3.2 钴基合金与陶瓷复合涂层 | 第16-18页 |
| 1.3.3 铁基合金与陶瓷复合涂层 | 第18页 |
| 1.4 熔池中WC烧损形式 | 第18-20页 |
| 1.4.1 溶解扩散式烧损 | 第18-19页 |
| 1.4.2 第二相分解烧损 | 第19页 |
| 1.4.3 溃散-溶解扩散复合式烧损 | 第19-20页 |
| 1.5 研究内容和创新点 | 第20-21页 |
| 2 试验材料、设备及试验方法 | 第21-28页 |
| 2.1 总体研究路线 | 第21-22页 |
| 2.2 试验材料 | 第22-23页 |
| 2.2.1 基体材料 | 第22页 |
| 2.2.2 熔覆粉末材料 | 第22-23页 |
| 2.3 试验设备及分析方法 | 第23-28页 |
| 2.3.1 熔覆层制备 | 第23-24页 |
| 2.3.2 熔覆层组织及结构表征 | 第24-25页 |
| 2.3.3 熔覆层性能分析 | 第25-28页 |
| 3 半导体激光工艺参数研究 | 第28-36页 |
| 3.1 激光工艺参数对熔覆层宏观质量的影响 | 第28-31页 |
| 3.1.1 激光功率的影响 | 第29-30页 |
| 3.1.2 扫描速度的影响 | 第30-31页 |
| 3.2 激光工艺参数对熔覆层气孔和WC烧损的影响 | 第31-35页 |
| 3.2.1 功率的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.2 扫描速度的影响 | 第33-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 Ni/WC激光熔覆层组织结构及性能研究 | 第36-50页 |
| 4.1 WC含量对熔覆层抗裂性的影响 | 第36-38页 |
| 4.2 WC含量对熔覆层形貌的影响 | 第38-40页 |
| 4.3 Ni/WC熔覆层显微组织研究 | 第40-45页 |
| 4.4 Ni/WC熔覆层物相组成 | 第45-47页 |
| 4.5 Ni/WC熔覆层的硬度分析 | 第47-48页 |
| 4.6 本章小结 | 第48-50页 |
| 5 Co/WC激光熔覆层组织结构及性能研究 | 第50-59页 |
| 5.1 WC含量对Co/WC熔覆层抗裂性的影响 | 第50-51页 |
| 5.2 WC含量对熔覆层形貌的影响 | 第51-52页 |
| 5.3 Co/WC熔覆层显微组织研究 | 第52-56页 |
| 5.4 Co/WC熔覆层物相组成 | 第56-57页 |
| 5.5 Co/WC熔覆层的硬度分析 | 第57-58页 |
| 5.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 6 激光熔覆层摩擦磨损行为研究 | 第59-76页 |
| 6.1 Ni基合金+WC熔覆层耐磨性能研究 | 第59-66页 |
| 6.1.1 WC含量及温度对熔覆层耐磨性能的影响 | 第59-61页 |
| 6.1.2 熔覆层磨损形貌及磨损机理分析 | 第61-66页 |
| 6.2 Co基合金+WC熔覆层耐磨性能研究 | 第66-71页 |
| 6.2.1 WC含量及温度对熔覆层耐磨性能的影响 | 第66-68页 |
| 6.2.2 熔覆层磨损形貌及磨损机理分析 | 第68-71页 |
| 6.3 不同体系的熔覆层耐磨性能比较 | 第71-75页 |
| 6.3.1 不同体系的熔覆层磨损性能综合分析 | 第71-72页 |
| 6.3.2 不同体系熔覆层磨损形貌分析 | 第72-75页 |
| 6.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 7 Ni(Co)/WC耐磨熔覆层实际生产应用情况 | 第76-79页 |
| 7.1 轴类零件表面激光熔覆耐磨涂层 | 第76-78页 |
| 7.2 阀门表面激光熔覆耐磨涂层 | 第78-79页 |
| 8 全文总结 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-88页 |
| 附录： 攻读学位期间发表论文 | 第88页 |
