| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-38页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第14页 |
| 1.2 聚酰亚胺的应用与改性需求 | 第14-18页 |
| 1.2.1 聚酰亚胺的结构 | 第15-16页 |
| 1.2.2 聚酰亚胺的性能与应用 | 第16页 |
| 1.2.3 聚酰亚胺的改性需求 | 第16-18页 |
| 1.3 聚合物的改性方法 | 第18-24页 |
| 1.3.1 聚合物表面活化处理技术 | 第18-21页 |
| 1.3.2 聚合物表面氧化物沉积方法 | 第21-24页 |
| 1.4 SILAR法沉积技术 | 第24-27页 |
| 1.5 二氧化钛的结构与性能 | 第27-30页 |
| 1.5.1 二氧化钛的结构 | 第27-28页 |
| 1.5.2 二氧化钛的性能与应用 | 第28-30页 |
| 1.6 二氧化钛薄膜的低温沉积方法及其结晶行为 | 第30-36页 |
| 1.7 研究目的与内容 | 第36-38页 |
| 第2章 试验材料和分析方法 | 第38-44页 |
| 2.1 试验材料和试剂 | 第38-39页 |
| 2.2 试验方案 | 第39-41页 |
| 2.2.1 基体预处理 | 第39页 |
| 2.2.2 环境湿度的影响 | 第39-40页 |
| 2.2.3 SILAR法镀膜工艺参数和流程 | 第40页 |
| 2.2.4 质子辐照试验 | 第40-41页 |
| 2.2.5 光催化降解试验 | 第41页 |
| 2.3 分析测试方法 | 第41-44页 |
| 2.3.1 表征微观形貌 | 第41-42页 |
| 2.3.2 表征晶体结构 | 第42页 |
| 2.3.3 分析化学成分 | 第42页 |
| 2.3.4 表征厚度 | 第42-43页 |
| 2.3.5 测量光透过率 | 第43页 |
| 2.3.6 测量表面活性 | 第43页 |
| 2.3.7 表征光催化降解性能 | 第43-44页 |
| 第3章 聚酰亚胺表面SILAR法沉积TiO_2薄膜的生长机理 | 第44-65页 |
| 3.1 Kapton表面SILAR法沉积TiO_2的初期生长过程 | 第44-46页 |
| 3.1.1 微观形貌观察 | 第44-45页 |
| 3.1.2 厚度增长规律 | 第45-46页 |
| 3.2 Kapton表面SILAR法沉积TiO_2的化学状态变化 | 第46-50页 |
| 3.3 Kapton表面SILAR沉积TiO_2的驱动力分析 | 第50-57页 |
| 3.3.1 薄膜表面水接触角与表面粘附功动态演化行为分析 | 第50-54页 |
| 3.3.2 薄膜表面电子顺磁共振谱分析 | 第54-55页 |
| 3.3.3 SILAR法沉积TiO_2的生长模型与反应机理分析 | 第55-57页 |
| 3.4 TiCl_4前驱体溶液吸附时间对沉积过程的影响 | 第57-63页 |
| 3.4.1 吸附时间对薄膜形貌的影响 | 第57-59页 |
| 3.4.2 吸附时间对薄膜表面化学状态的影响 | 第59-63页 |
| 3.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 第4章 聚酰亚胺表面SILAR法沉积TiO_2薄膜的结构表征 | 第65-96页 |
| 4.1 SILAR法沉积TiO_2薄膜的结构表征 | 第65-68页 |
| 4.1.1 XRD谱表征 | 第65-66页 |
| 4.1.2 Raman谱分析 | 第66-68页 |
| 4.2 模板剂作用下SILAR法沉积TiO_2薄膜的结构表征 | 第68-74页 |
| 4.2.1 微观形貌观察 | 第68-69页 |
| 4.2.2 晶体结构表征 | 第69-71页 |
| 4.2.3 掺杂效应分析 | 第71-74页 |
| 4.3 SILAR法沉积晶化TiO_2薄膜的结晶机理分析 | 第74-80页 |
| 4.3.1 基体结构对TiO_2薄膜结构的影响 | 第74-79页 |
| 4.3.2 模板剂对TiO_2薄膜结构的影响 | 第79-80页 |
| 4.4 复合模板剂作用下SILAR法沉积TiO_2薄膜的结构表征 | 第80-86页 |
| 4.4.1 微观形貌观察 | 第81-83页 |
| 4.4.2 晶体结构表征 | 第83-86页 |
| 4.5 质子辐照对SILAR法沉积TiO_2薄膜结构的影响 | 第86-94页 |
| 4.5.1 质子辐照基体后沉积TiO_2薄膜的形貌和结构分析 | 第87-92页 |
| 4.5.2 质子辐照TiO_2薄膜后的结构分析 | 第92-94页 |
| 4.6 本章小结 | 第94-96页 |
| 第5章 聚酰亚胺表面SILAR法沉积TiO_2薄膜的光催化降解行为分析 | 第96-117页 |
| 5.1 SILAR法沉积TiO_2薄膜的光学性能 | 第96-99页 |
| 5.2 SILAR法沉积TiO_2薄膜的光催化降解性能 | 第99-108页 |
| 5.2.1 标定亚甲基蓝溶液浓度-吸光度标准曲线 | 第99-100页 |
| 5.2.2 SILAR法沉积TiO_2薄膜的光催化降解性能 | 第100-101页 |
| 5.2.3 单一模板剂调制下沉积TiO_2薄膜的光催化降解性能 | 第101-104页 |
| 5.2.4 复合模板剂调制下TiO_2薄膜的光催化降解性能 | 第104-107页 |
| 5.2.5 影响TiO_2薄膜光催化性能的因素分析 | 第107-108页 |
| 5.3 紫外光照射下TiO_2薄膜表面自由基演化行为 | 第108-115页 |
| 5.3.1 复合模板剂调制TiO_2薄膜表面自由基演化行为 | 第109-112页 |
| 5.3.2 质子辐照调制TiO_2薄膜表面自由基演化行为 | 第112-115页 |
| 5.4 本章小结 | 第115-117页 |
| 结论 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-136页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第136-138页 |
| 致谢 | 第138-139页 |
| 个人简历 | 第139页 |
