| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 薄膜及其电学性能 | 第11-13页 |
| 1.2.1 薄膜材料 | 第11页 |
| 1.2.2 薄膜电学性质 | 第11-13页 |
| 1.3 激光冲击处理工艺方法 | 第13-16页 |
| 1.3.1 激光冲击技术 | 第13-15页 |
| 1.3.2 冲击波理论 | 第15页 |
| 1.3.3 有限元仿真模拟激光冲击 | 第15-16页 |
| 1.4 本课题的研究目的和主要内容 | 第16-18页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第16-17页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 实验和研究方法 | 第18-23页 |
| 2.1 薄膜制备方法 | 第18-20页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术 | 第18页 |
| 2.1.2 膜基材料的选择 | 第18-19页 |
| 2.1.3 薄膜生长机理 | 第19-20页 |
| 2.2 激光冲击原理 | 第20-21页 |
| 2.3 样品表征和性能测试方法 | 第21-23页 |
| 2.3.1 X射衍射（XRD） | 第21页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第21页 |
| 2.3.3 原子力显微镜（AFM） | 第21页 |
| 2.3.4 透射电子显微镜（TEM） | 第21-22页 |
| 2.3.5 电性能测试 | 第22-23页 |
| 第三章 Cu薄膜的制备及性能测试 | 第23-36页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 实验部分 | 第23-25页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第23页 |
| 3.2.2 基片清洗 | 第23-24页 |
| 3.2.3 样品制备 | 第24-25页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第25-35页 |
| 3.3.1 衬底温度对Cu/Si薄膜质量及电学性能影响 | 第25-30页 |
| 3.3.2 衬底温度对Cu/PI薄膜质量及电学性能影响 | 第30-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 Cu薄膜的激光冲击实验研究 | 第36-50页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 激光冲击作用下应力波响应 | 第36-42页 |
| 4.2.1 激光冲击波的形成机制 | 第36页 |
| 4.2.2 约束模型下的激光冲击波 | 第36-37页 |
| 4.2.3 应力波的传播过程 | 第37-42页 |
| 4.3 实验部分 | 第42-44页 |
| 4.3.1 实验材料 | 第42-43页 |
| 4.3.2 实验装置 | 第43页 |
| 4.3.3 激光冲击工艺参数 | 第43-44页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第44-49页 |
| 4.4.1 激光冲击对Cu/Si薄膜质量的影响 | 第44-46页 |
| 4.4.2 激光冲击对Cu/PI薄膜质量的影响 | 第46-48页 |
| 4.4.3 激光冲击对Cu薄膜的电学性能的影响 | 第48-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 Cu薄膜的激光冲击仿真研究 | 第50-60页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 激光冲击处理的数值模拟 | 第50-52页 |
| 5.2.1 软件介绍 | 第50页 |
| 5.2.2 材料属性 | 第50-51页 |
| 5.2.3 有限元模型 | 第51页 |
| 5.2.4 加载时间历程 | 第51-52页 |
| 5.2.5 求解控制 | 第52页 |
| 5.3 模拟结果与讨论 | 第52-58页 |
| 5.3.1 激光冲击波在界面传播模型 | 第52-55页 |
| 5.3.2 Cu薄膜的模拟结果分析 | 第55-58页 |
| 5.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 第六章 总结和展望 | 第60-62页 |
| 6.1 工作总结 | 第60-61页 |
| 6.2 工作展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第68页 |