| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 化学镀技术概述 | 第9-17页 |
| 1.2.1 化学镀技术的机理 | 第10-13页 |
| 1.2.2 化学镀镍的分类 | 第13-14页 |
| 1.2.3 化学镀镀层的理化性质 | 第14-16页 |
| 1.2.4 化学镀的应用 | 第16页 |
| 1.2.5 化学镀的研究现状及展望 | 第16-17页 |
| 1.3 化学镀过程中的磁学问题 | 第17-20页 |
| 1.3.1 磁性物理基础与磁场 | 第17页 |
| 1.3.2 磁场对化学镀基体的影响 | 第17-19页 |
| 1.3.3 磁场对溶液中离子的影响 | 第19-20页 |
| 1.4 选题依据及研究内容 | 第20-22页 |
| 2 实验材料与实验方法 | 第22-34页 |
| 2.1 实验设备、材料及化学试剂 | 第22-23页 |
| 2.2 化学镀层的制备 | 第23-28页 |
| 2.2.1 基体材料的预处理 | 第23-25页 |
| 2.2.2 化学镀液的配制 | 第25-27页 |
| 2.2.3 化学镀层的制备 | 第27-28页 |
| 2.3 分析测试试样的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.1 取样、镶嵌 | 第28页 |
| 2.3.2 磨制、抛光及腐蚀 | 第28-29页 |
| 2.4 化学镀层性能的表征 | 第29-33页 |
| 2.4.1 化学镀层的厚度及沉积速率 | 第29-30页 |
| 2.4.2 化学镀层的硬度 | 第30页 |
| 2.4.3 化学镀层与基体的结合强度 | 第30-32页 |
| 2.4.4 化学镀层孔隙率的测定 | 第32页 |
| 2.4.5 化学镀层耐磨性能的测定 | 第32页 |
| 2.4.6 化学镀层表面形貌及组成成分的分析 | 第32-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 3 铜基化学镀镍初步探索 | 第34-41页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 铜基化学镀的诱发处理 | 第34-35页 |
| 3.3 诱发处理的结果与分析 | 第35-37页 |
| 3.4 不同基体化学镀层的性能分析 | 第37-40页 |
| 3.4.1 不同基体镀层硬度与形貌 | 第37-39页 |
| 3.4.2 不同基体化学镀的镀速及结合强度 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 磁化学与磁场解析 | 第41-49页 |
| 4.1 引言 | 第41-43页 |
| 4.2 磁场下的材料合成 | 第43-44页 |
| 4.2.1 磁场在溶剂热合成中的应用 | 第43页 |
| 4.2.2 磁场下的电化学沉积 | 第43页 |
| 4.2.3 磁场其他方面的应用 | 第43-44页 |
| 4.3 磁场对材料结构和性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.3.1 磁场对材料宏观结构的影响 | 第44页 |
| 4.3.2 磁场对材料微观结构的影响 | 第44页 |
| 4.3.3 磁场对材料其他方面的影响 | 第44-45页 |
| 4.4 外加磁场的解析 | 第45-48页 |
| 4.4.1 恒定磁场的场强分布 | 第45-47页 |
| 4.4.2 交变磁场的场强分布 | 第47-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 5 外加磁场条件下铁基材料化学镀 | 第49-63页 |
| 5.1 外加磁场对化学镀的影响 | 第49-57页 |
| 5.1.1 不同外加磁场对化学镀镀速的影响 | 第49-53页 |
| 5.1.2 不同外加磁场对化学镀镀层形貌的影响 | 第53-55页 |
| 5.1.3 不同外加磁场对化学镀镀层与基体结合强度的影响 | 第55-57页 |
| 5.2 磁场对不同配方化学镀的影响 | 第57-61页 |
| 5.2.1 静磁场对化学镀镀速的影响 | 第57-59页 |
| 5.2.2 静磁场对化学镀表面形貌的影响 | 第59页 |
| 5.2.3 静磁场对化学镀结合强度的影响 | 第59-61页 |
| 5.3 本章小结 | 第61-63页 |
| 6 外加磁场条件下铜基材料化学镀 | 第63-88页 |
| 6.1 引言 | 第63页 |
| 6.2 正交实验 | 第63-75页 |
| 6.2.1 正交实验方案设定 | 第63-64页 |
| 6.2.2 镀层硬度极差分析 | 第64-67页 |
| 6.2.3 结合强度极差分析 | 第67-71页 |
| 6.2.4 镀层沉积速率极差分析 | 第71-73页 |
| 6.2.5 镀层表面形貌和能谱分析 | 第73-75页 |
| 6.3 外加磁场对铜基化学镀镍的影响 | 第75-81页 |
| 6.3.1 不同外加磁场对沉积速率的影响 | 第76-78页 |
| 6.3.2 不同外加磁场对表面形貌的影响 | 第78-79页 |
| 6.3.3 不同外加磁场对结合强度的影响 | 第79-81页 |
| 6.4 不同磷含量铜基化学镀镍 | 第81-86页 |
| 6.4.1 镀层磷含量的确定 | 第81-82页 |
| 6.4.2 不同磷含量镀层的表面形貌 | 第82-84页 |
| 6.4.3 不同磷含量镀层结合强度分析 | 第84-86页 |
| 6.5 本章小结 | 第86-88页 |
| 结论 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 攻读硕士期间已发表（录用）论文 | 第94-95页 |