MPCVD制备多层金刚石膜
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 金刚石的结构及分类 | 第12-14页 |
| 1.1.1 金刚石的结构 | 第12-13页 |
| 1.1.2 金刚石的分类 | 第13-14页 |
| 1.2 金刚石的性能及应用 | 第14-18页 |
| 1.2.1 力学性能及应用 | 第14-15页 |
| 1.2.2 电学性能及应用 | 第15页 |
| 1.2.3 热学性能及应用 | 第15-16页 |
| 1.2.4 光学性能及应用 | 第16-17页 |
| 1.2.5 声学性能及应用 | 第17-18页 |
| 1.3 CVD金刚石生长机理 | 第18-21页 |
| 1.4 CVD金刚石膜制备方法 | 第21-24页 |
| 1.5 多层金刚石膜的研究现状及应用 | 第24-26页 |
| 1.6 研究目的及内容 | 第26-28页 |
| 第2章 实验装置与表征 | 第28-34页 |
| 2.1 实验装置 | 第28-30页 |
| 2.1.1 2kW-MPCVD装置 | 第28-30页 |
| 2.1.2 75kW-MPCVD装置 | 第30页 |
| 2.2 表征方法 | 第30-34页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第31页 |
| 2.2.2 X射线衍射仪 | 第31-32页 |
| 2.2.3 激光拉曼光谱 | 第32页 |
| 2.2.4 原子力显微镜 | 第32-34页 |
| 第3章 单层金刚石膜的制备研究 | 第34-50页 |
| 3.1 CO_2浓度对金刚石膜生长的影响研究 | 第35-41页 |
| 3.1.1 CO_2浓度对金刚石膜表面形貌的影响 | 第35-38页 |
| 3.1.2 CO_2浓度对金刚石膜晶粒取向的影响 | 第38-39页 |
| 3.1.3 CO_2浓度对金刚石膜质量的影响 | 第39-41页 |
| 3.2 微米金刚石膜的制备研究 | 第41-46页 |
| 3.2.1 微米金刚石膜表面形貌分析 | 第41-43页 |
| 3.2.2 微米金刚石膜晶粒取向分析 | 第43-44页 |
| 3.2.3 微米金刚石膜质量分析 | 第44-45页 |
| 3.2.4 微米金刚石膜沉积速率分析 | 第45-46页 |
| 3.3 纳米金刚石膜的制备研究 | 第46-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 多层金刚石膜的制备研究 | 第50-66页 |
| 4.1 双层金刚石膜的制备研究 | 第51-56页 |
| 4.1.1 双层金刚石膜表面形貌分析 | 第51-53页 |
| 4.1.2 发射光谱分析 | 第53-54页 |
| 4.1.3 双层金刚石膜晶粒取向分析 | 第54-55页 |
| 4.1.4 双层金刚石膜质量分析 | 第55-56页 |
| 4.2 三层金刚石膜的制备研究 | 第56-59页 |
| 4.2.1 三层金刚石膜表面形貌分析 | 第56-57页 |
| 4.2.2 三层金刚石膜晶粒取向分析 | 第57-58页 |
| 4.2.3 三层金刚石膜质量分析 | 第58-59页 |
| 4.3 四层金刚石膜的制备研究 | 第59-62页 |
| 4.4 金刚石膜表面粗糙度分析 | 第62-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-66页 |
| 第5章 大面积多层金刚石膜的制备研究 | 第66-72页 |
| 5.1 基片温度均匀性研究 | 第67页 |
| 5.2 等离子体发射光谱诊断 | 第67-68页 |
| 5.3 金刚石膜表面形貌分析 | 第68-70页 |
| 5.4 金刚石膜质量分析 | 第70页 |
| 5.5 本章小结 | 第70-72页 |
| 第6章 全文总结与展望 | 第72-74页 |
| 6.1 全文总结 | 第72-73页 |
| 6.2 论文展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
