中文摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第8-20页 |
1.1 转动各向异性的发现 | 第8-9页 |
1.2 具有转动各向异性的材料的分类 | 第9-12页 |
1.2.1 单层膜 | 第10-12页 |
1.2.2 多层膜 | 第12页 |
1.3 实验上影响出现条纹畴结构的因素 | 第12-14页 |
1.4 转动各向异性的测试 | 第14-16页 |
1.5 转动各向异性面临的问题 | 第16页 |
1.6 本论文主要研究的内容 | 第16-18页 |
参考文献 | 第18-20页 |
第二章 薄膜的制备及测试 | 第20-30页 |
2.1 薄膜样品的制备 | 第20-21页 |
2.2 性能表征方法 | 第21-29页 |
2.2.1 振动样品磁强计(VSM) | 第21页 |
2.2.2 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第21-22页 |
2.2.3 X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
2.2.4 表面轮廓分析仪(台阶仪) | 第23-24页 |
2.2.5 矢量网络分析仪(VNA) | 第24-25页 |
2.2.6 磁力显微镜(MFM) | 第25-26页 |
2.2.7 铁磁共振(FMR) | 第26-29页 |
参考文献 | 第29-30页 |
第三章 在FeNi中掺入不同浓度NiFe_2O_4(NFO)的磁畴结构和高频特性 | 第30-39页 |
3.1 样品FeNi-NFO的制备 | 第30-31页 |
3.2 FeNi-NFO薄膜的静态磁性 | 第31-32页 |
3.3 不同掺杂浓度的NFO对磁畴结构的影响 | 第32-34页 |
3.4 FeNi中含有不同浓度的NFO的高频磁性 | 第34-36页 |
3.5 本章小结 | 第36-38页 |
参考文献 | 第38-39页 |
第四章 斜溅射对FeNi-24%NFO薄膜的转动各向异性的影响 | 第39-50页 |
4.1 样品的制备 | 第40页 |
4.2 FeNi-24%NFO薄膜的结构 | 第40-41页 |
4.3 FeNi-24%NFO薄膜的静态磁性 | 第41-42页 |
4.4 磁畴结构随着外磁场的变化 | 第42-44页 |
4.5 薄膜的转动各向异性场和垂直各向异性的关系 | 第44-46页 |
4.6 本章小结 | 第46-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
第五章 对转动各向异性微观机制的数值分析 | 第50-58页 |
5.1 理论模型的构建 | 第50-54页 |
5.2 Permalloy合金中多层膜结构对条纹畴结构的影响 | 第54-56页 |
5.3 本章小结 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-58页 |
第六章 总结及展望 | 第58-60页 |
6.1 总结 | 第58-59页 |
6.2 展望 | 第59-60页 |
附录 | 第60-61页 |
致谢 | 第61页 |