摘要 | 第11-13页 |
Abstract | 第13-14页 |
第一章 绪论 | 第15-27页 |
1.1 研究背景 | 第16-21页 |
1.1.1 低维纳米材料介绍 | 第16-18页 |
1.1.2 低维纳米材料的非线性光学特性及其在脉冲激光器中的应用优势 | 第18-19页 |
1.1.3 低维纳米材料应用于被动脉冲光纤激光器的前景 | 第19-21页 |
1.2 国内外研究进展 | 第21-25页 |
1.2.1 石墨烯非线性光学特性研究进展 | 第21-22页 |
1.2.2 拓扑绝缘体及二硫化钼非线性光学特性研究进展 | 第22-24页 |
1.2.3 二硫化钨及黑磷等其他低维材料的非线性光学特性研究现状 | 第24-25页 |
1.3 本文的工作内容和论文结构 | 第25-27页 |
1.3.1 工作内容 | 第25页 |
1.3.2 论文结构 | 第25-27页 |
第二章 低维纳米材料的非线性光学特性表征方法及分析 | 第27-52页 |
2.1 低维材料的非线性光学理论概述 | 第27-37页 |
2.1.1 低维材料非线性特性简介 | 第27-29页 |
2.1.2 非线性光学的波动方程 | 第29-36页 |
2.1.3 低维纳米材料非线性特性的表征方法 | 第36-37页 |
2.2 Z扫描技术 | 第37-50页 |
2.2.1 Z扫描实验装置及原理 | 第37-47页 |
2.2.2 高精度Z扫描测试系统的搭建 | 第47-50页 |
2.3 本章总结 | 第50-52页 |
第三章 二硫化钨低维材料非线性光学特性测量 | 第52-82页 |
3.1 单层二硫化钨二维原子晶体的非线性光学特性测量 | 第52-73页 |
3.1.1 单层二硫化钨二维晶体的制备和表征 | 第53-54页 |
3.1.2 单层二硫化钨二维晶体的非线性吸收特性 | 第54-63页 |
3.1.3 单层二硫化钨二维晶体的非线性折射率的测量 | 第63-68页 |
3.1.4 单层二硫化钨二维晶体二阶非线性效应测试 | 第68-73页 |
3.2 二硫化钨纳米片的非线性饱和吸收特性 | 第73-80页 |
3.2.1 二硫化钨纳米片的制备和表征 | 第73-75页 |
3.2.2 多层二硫化钨纳米片对 400nm激光的非线性吸收 | 第75-77页 |
3.2.3 多层二硫化钨纳米片对 800nm激光的非线性吸收 | 第77-78页 |
3.2.4 多层二硫化钨纳米片对 1550nm激光的非线性吸收 | 第78-80页 |
3.3 本章总结 | 第80-82页 |
第四章 低维黑磷材料非线性光学特性测量 | 第82-93页 |
4.1 黑磷纳米片的非线性光学特性测量 | 第82-89页 |
4.1.1 黑磷纳米片的制备 | 第82-83页 |
4.1.2 黑磷纳米片的表征 | 第83-84页 |
4.1.3 黑磷纳米片的非线性吸收特性测量 | 第84-88页 |
4.1.4 黑磷纳米片的非线性折射特性测量 | 第88-89页 |
4.2 黑磷量子点的非线性光学特性测量 | 第89-92页 |
4.2.1 黑磷量子点的制备和表征 | 第89-91页 |
4.2.2 黑磷量子点非线性吸收特性测量 | 第91-92页 |
4.3 本章总结 | 第92-93页 |
第五章 低维纳米材料非线性光学特性在光纤激光器中的应用 | 第93-105页 |
5.1 基于可饱和吸收体的脉冲光纤激光器简介 | 第93-95页 |
5.1.1 光纤激光器中的可饱和吸收体 | 第93-94页 |
5.1.2 低维纳米材料可饱和吸收体 | 第94页 |
5.1.3 低维纳米材料用作饱和吸收体的方法 | 第94-95页 |
5.2 基于黑磷纳米片可饱和吸收体的 2μm锁模激光器 | 第95-100页 |
5.2.1 实验装置 | 第95-97页 |
5.2.2 实验结果及讨论 | 第97-100页 |
5.3 基于黑磷纳米片可饱和吸收体的 2μm调Q激光器 | 第100-103页 |
5.3.1 实验装置 | 第100-101页 |
5.3.2 实验结果及讨论 | 第101-103页 |
5.4 本章总结 | 第103-105页 |
第六章 全文总结 | 第105-108页 |
6.1 主要结论 | 第105-106页 |
6.2 创新点 | 第106页 |
6.3 不足与展望 | 第106-108页 |
致谢 | 第108-111页 |
参考文献 | 第111-119页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第119页 |