摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第一章 绪论 | 第9-25页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 电光调制器的分类 | 第9-16页 |
1.2.1 按调制器结构分类 | 第10-11页 |
1.2.2 按波导材料分类 | 第11-16页 |
1.3 聚合物电光调制器的应用与研究现状 | 第16-22页 |
1.3.1 聚合物电光调制器的应用 | 第16-17页 |
1.3.2 聚合物电光调制器的研究现状 | 第17-22页 |
1.4 课题的意义和工作 | 第22页 |
1.5 论文的结构 | 第22-25页 |
第二章 聚合物光波导环形电光调制器的理论基础 | 第25-31页 |
2.1 聚合物的极化原理及方法 | 第25-26页 |
2.2 聚合物的电光效应 | 第26-28页 |
2.3 环形电光调制器的调制原理 | 第28-30页 |
2.4 本章小结 | 第30-31页 |
第三章 集成非对称马赫-增德尔干涉仪的环形调制器设计 | 第31-51页 |
3.1 结构设计与优化 | 第32-39页 |
3.1.1 结构 | 第32页 |
3.1.2 理论分析 | 第32-36页 |
3.1.3 性能分析与结构优化 | 第36-39页 |
3.2 弯曲倒脊形波导设计 | 第39-47页 |
3.2.1 倒脊形波导的理论研究 | 第41-44页 |
3.2.2 倒脊形弯曲波导的损耗 | 第44-47页 |
3.3 行波电极设计 | 第47-49页 |
3.3.1 行波电极分类 | 第48-49页 |
3.3.2 共面波导电极优化设计 | 第49页 |
3.4 本章小结 | 第49-51页 |
第四章 集成非对称马赫-增德尔干涉仪的环形调制器制备工艺研究 | 第51-59页 |
4.1 集成非对称马赫-增德尔干涉仪的环形调制器的具体工艺流程 | 第51-54页 |
4.1.1 聚合物电光调制器波导制备 | 第51-52页 |
4.1.2 聚合物电光调制器电极制备 | 第52-54页 |
4.2 集成非对称马赫-增德尔干涉仪的环形调制器的工艺优化 | 第54-57页 |
4.2.1 旋涂工艺优化 | 第54页 |
4.2.2 紫外曝光工艺优化 | 第54-56页 |
4.2.3 光刻工艺优化 | 第56页 |
4.2.4 镀膜工艺优化 | 第56-57页 |
4.3 本章小结 | 第57-59页 |
第五章 用于测试高速电光调制器的微波探针研究 | 第59-69页 |
5.1 微波探针简介 | 第59-60页 |
5.2 微波探针结构设计与建模 | 第60-61页 |
5.2.1 探针结构 | 第60页 |
5.2.2 建模 | 第60-61页 |
5.3 微波探针优化设计 | 第61-65页 |
5.3.1 电极间距对性能的影响 | 第61-62页 |
5.3.2 信号电极宽度对性能的影响 | 第62-63页 |
5.3.3 衬底介电常数不同对性能的影响 | 第63-64页 |
5.3.4 电极厚度对性能的影响 | 第64-65页 |
5.3.5 频率对特性阻抗的影响 | 第65页 |
5.4 微波探针的制备与测试 | 第65-68页 |
5.5 本章小结 | 第68-69页 |
第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
6.1 总结 | 第69页 |
6.2 展望 | 第69-71页 |
致谢 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-81页 |
作者简介 | 第81页 |