基于同步辐射的串行晶体学实验技术研究
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-15页 |
| 1.1.1 X射线晶体学 | 第11-12页 |
| 1.1.2 同步辐射晶体学 | 第12-13页 |
| 1.1.3 微小晶体的解析 | 第13-15页 |
| 1.2 基于自由电子激光的串行飞秒晶体学 | 第15-19页 |
| 1.2.1 自由电子激光 | 第15页 |
| 1.2.2 串行飞秒晶体学 | 第15-17页 |
| 1.2.3 新型上样方式 | 第17-19页 |
| 1.3 基于同步辐射的串行晶体学 | 第19-22页 |
| 1.3.1 发展目的 | 第19页 |
| 1.3.2 研究现状 | 第19-22页 |
| 1.4 研究内容及意义 | 第22-25页 |
| 第二章 串行晶体学的辐射损伤与数据处理 | 第25-31页 |
| 2.1 自由电子激光的辐射损伤 | 第25-26页 |
| 2.2 同步辐射的辐射损伤 | 第26-27页 |
| 2.3 辐射损伤计算软件RADDOSE | 第27-29页 |
| 2.4 SFX衍射数据的处理 | 第29-31页 |
| 第三章 静电纺丝串行上样技术研究与装置研制 | 第31-45页 |
| 3.1 静电纺丝理论 | 第31-38页 |
| 3.1.1 基本原理 | 第31-33页 |
| 3.1.2 调节机制与表征量 | 第33-34页 |
| 3.1.3 上海光源生物大分子线站 | 第34页 |
| 3.1.4 实验装置平台 | 第34-38页 |
| 3.2 控制因素 | 第38-42页 |
| 3.2.1 电压控制 | 第38-39页 |
| 3.2.2 流量控制 | 第39-40页 |
| 3.2.3 辐射剂量与流速 | 第40-42页 |
| 3.3 真空问题 | 第42-45页 |
| 3.3.1 电离辐射 | 第42-43页 |
| 3.3.2 同轴静电纺丝 | 第43-44页 |
| 3.3.3 子液选择 | 第44-45页 |
| 第四章 同步辐射串行晶体学实验 | 第45-53页 |
| 4.1 样品准备 | 第45-46页 |
| 4.2 实验操作 | 第46-47页 |
| 4.3 实验结果 | 第47-53页 |
| 4.3.1 静电纺丝上样实验 | 第47-48页 |
| 4.3.2 毛细管上样实验 | 第48-51页 |
| 4.3.3 结果讨论 | 第51-53页 |
| 第五章 总结及展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 附录一 | 第59-65页 |
| 作者简历 | 第65-67页 |
| 发表文章目录 | 第67页 |
