| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第15-41页 |
| 1.1 高分子结晶行为 | 第15-29页 |
| 1.1.1 高分子结晶理论 | 第15-19页 |
| 1.1.2 高分子结晶形态 | 第19-23页 |
| 1.1.3 薄膜高分子的结晶及其生长机理 | 第23-29页 |
| 1.2 结晶高分子的熔融行为 | 第29-34页 |
| 1.2.1 高分子熔融理论 | 第29-31页 |
| 1.2.2 高分子单晶退火与熔融 | 第31-34页 |
| 1.3 原子力显微镜(AFM)及其在高分子领域的应用 | 第34-38页 |
| 1.3.1 原子力显微镜的工作原理 | 第35-36页 |
| 1.3.2 原子力显微镜的成像模式 | 第36-37页 |
| 1.3.3 原子力显微镜在高分子领域的应用 | 第37-38页 |
| 1.4 本论文工作的研究目的和意义 | 第38-39页 |
| 1.5 本论文创新点 | 第39-41页 |
| 第二章 PEO及PBS单晶的培养 | 第41-49页 |
| 2.1 引言 | 第41-42页 |
| 2.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第42页 |
| 2.2.2 样品制备 | 第42-44页 |
| 2.2.3 仪器及表征方法 | 第44页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第44-47页 |
| 2.3.1 PEO单层和多层单晶形貌 | 第44-45页 |
| 2.3.2 PBS单层和多层单晶形貌 | 第45-46页 |
| 2.3.3 影响高分子单晶形貌的因素 | 第46-47页 |
| 2.4 本章结论 | 第47-49页 |
| 第三章 PEO单晶在不同片晶取向iPB-1基底上的熔融研究 | 第49-65页 |
| 3.1 引言 | 第49-50页 |
| 3.2 实验部分 | 第50-52页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第50页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第50-51页 |
| 3.2.3 仪器及表征方法 | 第51-52页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第52-64页 |
| 3.3.1 PEO单晶在不同基底上的熔融行为实验 | 第52-59页 |
| 3.3.2 对PEO单晶在不同基底上的熔融行为的理论计算 | 第59-61页 |
| 3.3.3 PEO旋节去浸润特征波长的理论计算 | 第61-64页 |
| 3.4 本章结论 | 第64-65页 |
| 第四章 PEO单晶在不同厚度PVPh基底上的熔融研究 | 第65-87页 |
| 4.1 引言 | 第65-66页 |
| 4.2 实验部分 | 第66页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第66页 |
| 4.2.2 样品制备 | 第66页 |
| 4.2.3 仪器及表征方法 | 第66页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第66-86页 |
| 4.3.1 PEO单晶的表征 | 第66-67页 |
| 4.3.2 不同厚度PVPh基底的表征 | 第67页 |
| 4.3.3 PEO单晶在硅基底上的熔融行为 | 第67-68页 |
| 4.3.4 PEO单晶在不同厚度的PVPh基底上的熔融行为 | 第68-80页 |
| 4.3.5 PEO单晶在不同热处理方式的PVPh基底上的浸润行为 | 第80-86页 |
| 4.4 本章结论 | 第86-87页 |
| 第五章 PBS单晶在不同厚度PVPH基底上的熔融研究 | 第87-95页 |
| 5.1 引言 | 第87页 |
| 5.2 实验部分 | 第87-88页 |
| 5.2.1 实验材料 | 第87页 |
| 5.2.2 样品制备 | 第87-88页 |
| 5.2.3 仪器及表征方法 | 第88页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第88-93页 |
| 5.3.1 PBS单晶的表征 | 第88-89页 |
| 5.3.2 不同厚度PVPh基底的表征 | 第89页 |
| 5.3.3 PBS单晶在不同厚度的PVPh基底上的熔融行为 | 第89-93页 |
| 5.4 本章结论 | 第93-95页 |
| 第六章 结论 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-113页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第113-115页 |
| 致谢 | 第115-117页 |
| 作者和导师简介 | 第117-119页 |
| 附件 | 第119-121页 |
