| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| ·纳米半导体材料简况 | 第11-15页 |
| ·纳米半导体材料的研究现状 | 第12-13页 |
| ·纳米半导体材料的光催化性 | 第13-15页 |
| ·纳米TiO_2材料 | 第15-24页 |
| ·纳米TiO_2的光催化性及机理 | 第17-18页 |
| ·纳米TiO_2的制备方法 | 第18-20页 |
| ·纳米TiO_2的改性 | 第20-22页 |
| ·纳米TiO_2的应用 | 第22-24页 |
| ·多孔TiO_2材料的研究现状 | 第24-25页 |
| ·论文研究目的、意义和主要研究内容 | 第25-27页 |
| ·论文研究目的、意义 | 第25-26页 |
| ·论文主要研究内容 | 第26-27页 |
| 2 多孔TiO_2的制备、表征和光催化性能评价 | 第27-45页 |
| ·引言 | 第27-28页 |
| ·实验制备过程 | 第28-32页 |
| ·仪器、药品 | 第28-29页 |
| ·多孔TiO_2的制备 | 第29页 |
| ·光催化性能实验 | 第29-31页 |
| ·样品测试与表征 | 第31-32页 |
| ·多孔TiO_2制备条件优选 | 第32-41页 |
| ·模板剂的影响 | 第32-34页 |
| ·模板剂(PEG-1000)用量的影响 | 第34-35页 |
| ·蒸馏水用量的影响 | 第35-36页 |
| ·煅烧温度影响 | 第36-38页 |
| ·煅烧时间影响 | 第38-39页 |
| ·正交实验 | 第39-41页 |
| ·多孔TiO_2表征 | 第41-44页 |
| ·多孔TiO_2比表面积及孔径分析 | 第41-42页 |
| ·多孔TiO_2 XRD分析 | 第42-43页 |
| ·多孔TiO_2电镜分析(SEM) | 第43页 |
| ·多孔TiO_2 UV-Vis DRS分析 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 3 银掺杂多孔TiO_2的制备、表征和光催化性能评价 | 第45-56页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验制备过程 | 第45-46页 |
| ·仪器、药品 | 第45-46页 |
| ·银掺杂多孔TiO_2的制备 | 第46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-55页 |
| ·不同制备方法的银掺杂样品光催化性能评价 | 第46-48页 |
| ·掺银量对光催化性的影响 | 第48-49页 |
| ·紫外光照还原时间对光催化性的影响 | 第49-50页 |
| ·FI-IR光谱分析 | 第50-51页 |
| ·UV-Vis DRS分析 | 第51-52页 |
| ·比表面及孔径分析 | 第52-53页 |
| ·SEM分析 | 第53-54页 |
| ·XRD分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 4 光催化降解甲基橙条件的探究 | 第56-65页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验药品及过程 | 第56-57页 |
| ·不同降解反应条件对光催化性的影响 | 第57-62页 |
| ·光催化降解时间 | 第57-58页 |
| ·光催化剂的用量 | 第58-59页 |
| ·甲基橙溶液的起始浓度 | 第59-60页 |
| ·pH值 | 第60-61页 |
| ·氧化剂H_2O_2的加入量 | 第61-62页 |
| ·催化剂用量对甲基橙光催化反应的动力学研究 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 5 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |