不锈钢表面高功率脉冲磁控溅射制备Cr/CrN/Cu-TiN多层膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景、目的和意义 | 第9页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术 | 第9-12页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术和发展 | 第9-10页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射放电特性 | 第10-11页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜特性 | 第11-12页 |
| ·超疏水材料制备研究进展 | 第12-16页 |
| ·自然界超疏水现象 | 第12-13页 |
| ·超疏水原理 | 第13-14页 |
| ·超疏水表面制备方法 | 第14-16页 |
| ·TiN薄膜制备方法及应用 | 第16-19页 |
| ·TiN薄膜制备方法 | 第16-18页 |
| ·TiN薄膜应用 | 第18-19页 |
| ·主要研究内容 | 第19-20页 |
| 2 材料与方法 | 第20-26页 |
| ·实验材料 | 第20页 |
| ·实验方法 | 第20-23页 |
| ·实验设备 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第21页 |
| ·实验工艺 | 第21-23页 |
| ·分析方法 | 第23-26页 |
| ·结构分析方法 | 第23-24页 |
| ·性能分析方法 | 第24-26页 |
| 3 结果与讨论 | 第26-43页 |
| ·相分析 | 第26-28页 |
| ·基体偏压对相组成影响分析 | 第26页 |
| ·励磁电流对相结构影响分析 | 第26-27页 |
| ·表面形貌对相结构影响分析 | 第27-28页 |
| ·能谱成分分析 | 第28-31页 |
| ·基体偏压对膜表面成分影响分析 | 第28-29页 |
| ·励磁电流对膜能谱成分影响分析 | 第29-30页 |
| ·表面形貌对膜能谱成分影响分析 | 第30-31页 |
| ·硬度分析 | 第31-33页 |
| ·基体偏压对膜硬度影响分析 | 第31页 |
| ·励磁电流对膜硬度影响分析 | 第31-32页 |
| ·表面形貌对膜硬度影响分析 | 第32-33页 |
| ·膜基结合力分析 | 第33-36页 |
| ·基体偏压对膜基结合力影响分析 | 第33-34页 |
| ·励磁电流对膜基结合力影响分析 | 第34-36页 |
| ·表面形貌对膜基结合力影响分析 | 第36页 |
| ·膜耐蚀性分析 | 第36-39页 |
| ·基体偏压对膜耐蚀性影响分析 | 第36-37页 |
| ·励磁线圈电流对膜耐蚀性影响分析 | 第37-38页 |
| ·表面形貌对膜耐蚀性影响分析 | 第38-39页 |
| ·膜疏水性分析 | 第39-43页 |
| ·基体偏压对膜疏水性影响分析 | 第39-40页 |
| ·励磁电流对膜疏水性影响分析 | 第40-41页 |
| ·表面形貌对膜疏水性影响分析 | 第41-43页 |
| 4 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 攻读学位期间发表的学术成果 | 第50页 |
