| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| ·课题研究背景 | 第7页 |
| ·课题研究意义 | 第7-9页 |
| ·国内外研究状况 | 第9-11页 |
| ·本文主要工作 | 第11-12页 |
| 2 激光对光学薄膜的损伤机制 | 第12-27页 |
| ·激光与光学薄膜相互作用过程 | 第12-17页 |
| ·激光与光学薄膜相互作用的热效应 | 第12-14页 |
| ·激光与光学薄膜相互作用的场效应 | 第14-17页 |
| ·激光致光学薄膜损伤机制 | 第17-22页 |
| ·杂质缺陷吸收机制 | 第17-19页 |
| ·电子雪崩电离机制 | 第19-20页 |
| ·多光子吸收电离机制 | 第20-21页 |
| ·热应力损伤机制 | 第21-22页 |
| ·提高光学薄膜抗激光损伤能力 | 第22-26页 |
| ·影响激光对光学薄膜损伤特性的因素 | 第22-25页 |
| ·提高薄膜抗激光损伤能力的方法 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 纳秒激光对HfO_2/SiO_2高反膜的损伤阈值测试 | 第27-46页 |
| ·损伤阈值的测试方法 | 第27-30页 |
| ·确定损伤阈值的方法 | 第27-29页 |
| ·几种损伤阈值测试方式 | 第29-30页 |
| ·实验中两个主要参数的测定方法 | 第30-33页 |
| ·激光能量的测定方法 | 第30-31页 |
| ·光斑大小的测定方法 | 第31-33页 |
| ·损伤的判断方法 | 第33-35页 |
| ·相衬显微镜法 | 第33页 |
| ·等离子体闪光法 | 第33-34页 |
| ·散射光法 | 第34页 |
| ·透射反射法 | 第34-35页 |
| ·光声测量法 | 第35页 |
| ·纳秒激光对HfO_2/SiO_2高反膜的损伤阈值测试实验和结果 | 第35-42页 |
| ·损伤阈值测试系统的组建 | 第35-37页 |
| ·损伤阈值测试实验过程 | 第37-39页 |
| ·损伤阈值测试结果与分析 | 第39-42页 |
| ·不同能量激光对HfO_2/SiO_2高反膜的损伤实验与形貌分析 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 纳秒激光对HfO_2/SiO_2高反膜的预处理 | 第46-55页 |
| ·激光预处理机制 | 第46-47页 |
| ·电子缺陷机制 | 第46-47页 |
| ·缺陷清除机制 | 第47页 |
| ·激光清洗机制 | 第47页 |
| ·激光加热退火机制 | 第47页 |
| ·激光预处理方式 | 第47-49页 |
| ·预处理激光的选择 | 第48页 |
| ·不同光斑大小的选择 | 第48页 |
| ·扫描能量步长的选择 | 第48页 |
| ·离线和在线处理的选择 | 第48-49页 |
| ·纳秒激光对HfO_2/SiO_2高反膜的预处理 | 第49-53页 |
| ·预处理过程和结果 | 第49-52页 |
| ·预处理结果分析 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 5 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·全文总结 | 第55-56页 |
| ·研究展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
