论文摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-26页 |
·分子取向的研究背景与应用 | 第11-20页 |
·分子的排列和取向 | 第11-12页 |
·分子取向的研究背景 | 第12-15页 |
·分子取向的应用 | 第15-20页 |
·本文工作 | 第20-22页 |
参考文献 | 第22-26页 |
第二章 分子取向的基本理论 | 第26-36页 |
·分子取向研究模型 | 第26-27页 |
·分子取向的方法 | 第27-33页 |
·四极或六极场选态取向 | 第27-28页 |
·强力“brute force”方法 | 第28-30页 |
·静电/激光复合场取向 | 第30-31页 |
·激光场取向 | 第31-33页 |
·分子取向的表征 | 第33-35页 |
参考文献 | 第35-36页 |
第三章 分子非绝热开关静电场取向 | 第36-46页 |
·非绝热开关静电场取向理论 | 第36-37页 |
·KRb分子非绝热开关静电场取向 | 第37-44页 |
·绝热作用和非绝热作用 | 第38-41页 |
·分子取向与静电场强度 | 第41-43页 |
·分子取向与初始转动温度 | 第43-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-46页 |
第四章 CO(X~1∑~+)分子静电/激光复合场取向 | 第46-63页 |
·静电/激光复合场取向理论 | 第46-48页 |
·理论方程 | 第46-47页 |
·超声分子束技术 | 第47-48页 |
·复合场中的绝热取向 | 第48-56页 |
·复合场中的非绝热取向 | 第56-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
第五章 静电/缓慢上升快速下降激光复合场取向 | 第63-71页 |
·理论模型 | 第63-64页 |
·KRb分子的取向 | 第64-69页 |
·电场强度和激光场强度 | 第64-67页 |
·激光脉冲上升和下降时间 | 第67-69页 |
·本章小结 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-71页 |
第六章 分子静电/整形飞秒激光复合场取向 | 第71-81页 |
·飞秒激光脉冲整形 | 第71-73页 |
·飞秒激光脉冲整形理论 | 第71-72页 |
·三次方相位调制整形 | 第72-73页 |
·IC1分子的取向 | 第73-78页 |
·本章小结 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-81页 |
第七章 分子取向辅助的Stark减速 | 第81-92页 |
·研究背景与发展现状 | 第81-83页 |
·分子取向在Stark减速中的应用 | 第83-88页 |
·静电Stark减速理论 | 第83-84页 |
·复合场中的相互作用势 | 第84-86页 |
·速度计算 | 第86-88页 |
·本章小结 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-92页 |
第八章 总结与展望 | 第92-94页 |
·研究工作总结 | 第92页 |
·本文的主要创新点 | 第92-93页 |
·未来研究工作展望 | 第93-94页 |
博士研究生阶段发表论文目录 | 第94-95页 |
致谢 | 第95页 |