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掺Yb3+氟化物晶体激光冷却理论与实验研究

摘要第1-8页
Abstract第8-14页
插图目录第14-20页
表格目录第20-21页
第一章 绪论第21-53页
   ·固体材料激光制冷的研究背景第22-24页
   ·固体材料激光制冷的理论研究进展第24-25页
   ·固体材料激光制冷的实验研究进展第25-46页
     ·掺杂稀土离子的固体材料激光制冷的实验研究进展第26-42页
     ·半导体材料激光制冷的实验研究进展第42-46页
   ·固体材料激光制冷的应用前景第46-51页
   ·本文的研究内容和章节安排第51-53页
第二章 固体材料激光制冷的热力学基础和基本理论第53-66页
   ·引言第53页
   ·固体材料激光制冷的热力学原理第53-56页
   ·掺杂稀土离子固体材料激光制冷的基本理论第56-61页
   ·固体材料激光制冷的热负载分析第61-65页
   ·本章小结第65-66页
第三章 表面等离子体增强固体材料激光制冷的理论研究第66-80页
   ·引言第66-67页
   ·表面等离子体共振增强原理第67-74页
     ·表面等离子体概念第67-68页
     ·表面等离子体色散关系第68-72页
     ·表面等离子体光激发第72-74页
   ·表面等离子体增强Yb~(3+):YLiF_4激光制冷的理论分析与研究第74-79页
   ·本章小结第79-80页
第四章 相长干涉增强固体材料激光制冷的理论研究第80-91页
   ·引言第80页
   ·多层介质薄膜相长干涉增强的理论基础第80-84页
   ·平板波导结构共振增强Yb~(3+):YLiF_4激光制冷的理论分析与研究第84-90页
   ·本章小结第90-91页
第五章 共振腔增强Yb~(3+):YLiF_4晶体激光冷却的实验研究第91-120页
   ·引言第91-92页
   ·共振腔增强激光冷却的实验研究系统第92-101页
     ·实验研究系统总述第92-94页
     ·半导体激光系统第94-97页
     ·共振腔锁定伺服控制系统第97-98页
     ·差分光谱测温(DLT)系统第98-101页
   ·共振腔增强吸收原理第101-104页
   ·Yb~(3+):YLiF_4晶体的物理化学以及光谱特性第104-107页
   ·平均荧光波长和温度的依赖关系第107-118页
     ·共振腔增强因子的理论计算和实际测量第109-111页
     ·共振腔增强Yb~(3+):YLiF_4晶体的DLT光谱与温度分析第111-113页
     ·制冷结果的分析第113-118页
   ·本章小结第118-120页
第六章 共振腔增强Yb~(3+):LuLiF_4晶体激光冷却的实验研究第120-145页
   ·引言第120-121页
   ·掺Yb~(3+)固体材料激光冷却至低温学温度的理论分析第121-125页
   ·Yb~(3+):LuLiF_4晶体的实验制备第125-127页
   ·LuLiF_4晶体结构和物理化学特性第127-128页
   ·掺杂Yb~(3+):LuLiF_4晶体的光谱特性第128-130页
   ·共振腔增强Yb~(3+):LuLiF_4晶体激光冷却的实验结果与分析第130-139页
     ·共振腔增强因子的理论计算和实验测量第130-134页
     ·共振腔增强Yb~(3+):LuLiF_4晶体的DLT光谱与温度分析第134-139页
   ·掺Yb~(3+):LuLiF_4晶体的激光制冷分析和应用前景第139-143页
   ·本章小结第143-145页
第七章 未来的工作第145-154页
   ·TA系统第145-148页
   ·固体激光冷却真空腔系统以及黑体辐射屏蔽腔体设计第148-152页
   ·Yb~(3+):YLiF_4晶体和Yb~(3+):LuLiF_4晶体的提纯第152-154页
第八章 总结与展望第154-159页
   ·工作总结第154-156页
   ·本文的主要创新点第156-157页
   ·未来研究工作的展望第157-159页
     ·新的激光冷却机制第157页
     ·新的掺杂稀土离子和基质材料第157-158页
     ·半导体材料激光冷却第158-159页
参考文献第159-173页
博士研究生阶段发表和待发表的论文目录第173-175页
致谢第175-176页

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