摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-14页 |
插图目录 | 第14-20页 |
表格目录 | 第20-21页 |
第一章 绪论 | 第21-53页 |
·固体材料激光制冷的研究背景 | 第22-24页 |
·固体材料激光制冷的理论研究进展 | 第24-25页 |
·固体材料激光制冷的实验研究进展 | 第25-46页 |
·掺杂稀土离子的固体材料激光制冷的实验研究进展 | 第26-42页 |
·半导体材料激光制冷的实验研究进展 | 第42-46页 |
·固体材料激光制冷的应用前景 | 第46-51页 |
·本文的研究内容和章节安排 | 第51-53页 |
第二章 固体材料激光制冷的热力学基础和基本理论 | 第53-66页 |
·引言 | 第53页 |
·固体材料激光制冷的热力学原理 | 第53-56页 |
·掺杂稀土离子固体材料激光制冷的基本理论 | 第56-61页 |
·固体材料激光制冷的热负载分析 | 第61-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第三章 表面等离子体增强固体材料激光制冷的理论研究 | 第66-80页 |
·引言 | 第66-67页 |
·表面等离子体共振增强原理 | 第67-74页 |
·表面等离子体概念 | 第67-68页 |
·表面等离子体色散关系 | 第68-72页 |
·表面等离子体光激发 | 第72-74页 |
·表面等离子体增强Yb~(3+):YLiF_4激光制冷的理论分析与研究 | 第74-79页 |
·本章小结 | 第79-80页 |
第四章 相长干涉增强固体材料激光制冷的理论研究 | 第80-91页 |
·引言 | 第80页 |
·多层介质薄膜相长干涉增强的理论基础 | 第80-84页 |
·平板波导结构共振增强Yb~(3+):YLiF_4激光制冷的理论分析与研究 | 第84-90页 |
·本章小结 | 第90-91页 |
第五章 共振腔增强Yb~(3+):YLiF_4晶体激光冷却的实验研究 | 第91-120页 |
·引言 | 第91-92页 |
·共振腔增强激光冷却的实验研究系统 | 第92-101页 |
·实验研究系统总述 | 第92-94页 |
·半导体激光系统 | 第94-97页 |
·共振腔锁定伺服控制系统 | 第97-98页 |
·差分光谱测温(DLT)系统 | 第98-101页 |
·共振腔增强吸收原理 | 第101-104页 |
·Yb~(3+):YLiF_4晶体的物理化学以及光谱特性 | 第104-107页 |
·平均荧光波长和温度的依赖关系 | 第107-118页 |
·共振腔增强因子的理论计算和实际测量 | 第109-111页 |
·共振腔增强Yb~(3+):YLiF_4晶体的DLT光谱与温度分析 | 第111-113页 |
·制冷结果的分析 | 第113-118页 |
·本章小结 | 第118-120页 |
第六章 共振腔增强Yb~(3+):LuLiF_4晶体激光冷却的实验研究 | 第120-145页 |
·引言 | 第120-121页 |
·掺Yb~(3+)固体材料激光冷却至低温学温度的理论分析 | 第121-125页 |
·Yb~(3+):LuLiF_4晶体的实验制备 | 第125-127页 |
·LuLiF_4晶体结构和物理化学特性 | 第127-128页 |
·掺杂Yb~(3+):LuLiF_4晶体的光谱特性 | 第128-130页 |
·共振腔增强Yb~(3+):LuLiF_4晶体激光冷却的实验结果与分析 | 第130-139页 |
·共振腔增强因子的理论计算和实验测量 | 第130-134页 |
·共振腔增强Yb~(3+):LuLiF_4晶体的DLT光谱与温度分析 | 第134-139页 |
·掺Yb~(3+):LuLiF_4晶体的激光制冷分析和应用前景 | 第139-143页 |
·本章小结 | 第143-145页 |
第七章 未来的工作 | 第145-154页 |
·TA系统 | 第145-148页 |
·固体激光冷却真空腔系统以及黑体辐射屏蔽腔体设计 | 第148-152页 |
·Yb~(3+):YLiF_4晶体和Yb~(3+):LuLiF_4晶体的提纯 | 第152-154页 |
第八章 总结与展望 | 第154-159页 |
·工作总结 | 第154-156页 |
·本文的主要创新点 | 第156-157页 |
·未来研究工作的展望 | 第157-159页 |
·新的激光冷却机制 | 第157页 |
·新的掺杂稀土离子和基质材料 | 第157-158页 |
·半导体材料激光冷却 | 第158-159页 |
参考文献 | 第159-173页 |
博士研究生阶段发表和待发表的论文目录 | 第173-175页 |
致谢 | 第175-176页 |