| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·铁电材料 | 第9-11页 |
| ·铁电材料的特点 | 第9-10页 |
| ·铁电材料的发展简史及其应用 | 第10-11页 |
| ·铁电薄膜制备及其电学的表征参数 | 第11-14页 |
| ·铁电薄膜制备 | 第11-12页 |
| ·掺杂改性 | 第12-13页 |
| ·铁电薄膜电学的表征参数 | 第13-14页 |
| ·铁电薄膜的应力及残余应力 | 第14-16页 |
| ·铁电薄膜的应力及残余应力研究现状 | 第14-15页 |
| ·残余应力的测试方法 | 第15-16页 |
| ·残余应力与铁电薄膜铁电性能的关系 | 第16页 |
| ·退火温度对铁电薄膜性能的影响 | 第16页 |
| ·本文选题依据和主要工作 | 第16-18页 |
| ·本文的选题依据 | 第16-17页 |
| ·本文的主要工作 | 第17-18页 |
| 第2章 BENT 铁电薄膜的制备及表征 | 第18-24页 |
| ·MOD 法制膜方法简介 | 第18页 |
| ·MOD 法制膜所需的仪器及环境要求 | 第18-19页 |
| ·制膜所需的仪器 | 第18-19页 |
| ·制膜的环境要求 | 第19页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·衬底的选取和清洗处理 | 第19页 |
| ·配液所需的化学药品 | 第19-20页 |
| ·MOD 法制备薄膜的工艺过程 | 第20-22页 |
| ·前驱体溶液的配置流程 | 第20页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第20-21页 |
| ·薄膜样品顶电极的制备 | 第21-22页 |
| ·铁电薄膜的表征方法 | 第22-23页 |
| ·薄膜微观结构的表征方法 | 第22页 |
| ·铁电薄膜电学性能的表征方法 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 退火温度对BENT 铁电薄膜微观结构及电性能影响 | 第24-33页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·不同退火温度BENT 铁电薄膜的微结构与成分 | 第24-27页 |
| ·XRD 结构分析 | 第24-25页 |
| ·SEM 测试形貌分析 | 第25-26页 |
| ·EDS 成分测试分析 | 第26-27页 |
| ·BENT 铁电薄膜的电学特性测试 | 第27-30页 |
| ·不同退火温度BENT 铁电薄膜的电滞回线 | 第27-28页 |
| ·退火温度对BENT 铁电薄膜漏电流的影响 | 第28-29页 |
| ·退火温度对BENT 铁电薄膜介电性能的影响 | 第29-30页 |
| ·剩余极化强度增强的机理 | 第30-31页 |
| ·掺杂离子浓度的影响机制 | 第30页 |
| ·基于位移效应的共掺机理 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第4章 BENT 铁电薄膜残余应力的XRD 测试 | 第33-42页 |
| ·薄膜的杨氏模量测试 | 第33-35页 |
| ·杨氏模量测量原理 | 第33-34页 |
| ·弹性模量和硬度测量结果 | 第34-35页 |
| ·残余应力测试 | 第35-38页 |
| ·残余应力测试方法原理 | 第35-37页 |
| ·BENT 铁电薄膜四点法XRD 谱 | 第37-38页 |
| ·退火温度对BENT 铁电薄膜残余应力影响的机理分析 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第5章 总结和展望 | 第42-44页 |
| ·论文总结 | 第42页 |
| ·论文展望 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 攻读学位期间发表的论文及参与的会议 | 第49页 |