| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·ZNO 和 AZO 的基本性质 | 第10-13页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·AZO 的导电机制 | 第12-13页 |
| ·AZO 的光学性能 | 第13页 |
| ·薄膜的生长机制 | 第13-15页 |
| ·成核阶段 | 第14页 |
| ·薄膜生长过程 | 第14-15页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第15-18页 |
| ·制备 AZO 薄膜的常用方法 | 第15-18页 |
| ·制备 AZO 薄膜方法的比较 | 第18页 |
| ·AZO 薄膜的研究进展 | 第18-19页 |
| ·脉冲调制射频等离子体的研究进展 | 第19-20页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 磁控溅射制备 AZO 薄膜与性能表征 | 第21-27页 |
| ·实验材料及设备 | 第21页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·实验设备 | 第21页 |
| ·实验 | 第21-22页 |
| ·基片的清洁 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射法制备 AZO 薄膜 | 第22页 |
| ·工艺参数的设定 | 第22-23页 |
| ·铝掺杂量 | 第22-23页 |
| ·靶基距 | 第23页 |
| ·基片温度 | 第23页 |
| ·工作气压 | 第23页 |
| ·溅射功率 | 第23页 |
| ·溅射时间 | 第23页 |
| ·连续射频功率溅射 AZO 薄膜方案 | 第23-24页 |
| ·脉冲调制射频功率溅射 AZO 薄膜方案 | 第24页 |
| ·AZO 薄膜的性能表征 | 第24-27页 |
| ·AZO 薄膜的结构性能表征 | 第24-25页 |
| ·AZO 薄膜的电学性能表征 | 第25-26页 |
| ·AZO 薄膜的光学性能表征 | 第26-27页 |
| 第3章 工艺参数对射频磁控溅射制备 AZO 薄膜的影响 | 第27-39页 |
| ·基片温度对 AZO 薄膜性能的影响 | 第27-30页 |
| ·基片温度对 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第27-29页 |
| ·基片温度对 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第29页 |
| ·基片温度对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第29-30页 |
| ·工作气压对 AZO 薄膜性能的研究 | 第30-34页 |
| ·工作气压对 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第31-32页 |
| ·工作气压对 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第32-33页 |
| ·工作气压对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第33-34页 |
| ·溅射功率对 AZO 薄膜性能的影响 | 第34-38页 |
| ·溅射功率对 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第34-36页 |
| ·溅射功率对 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第36-37页 |
| ·溅射功率对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 脉冲调制射频磁控溅射制备 AZO 薄膜 | 第39-47页 |
| ·相同溅射时间下占空比对脉冲沉积 AZO 薄膜的影响 | 第39-42页 |
| ·占空比对脉冲沉积薄膜结构性能的影响 | 第39-41页 |
| ·占空比对脉冲沉积 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第41-42页 |
| ·占空比对脉冲沉积 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第42页 |
| ·一定厚度下占空比对脉冲沉积 AZO 薄膜的影响 | 第42-46页 |
| ·占空比对脉冲沉积 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第43-44页 |
| ·占空比对脉冲沉积 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第44-45页 |
| ·占空比对脉冲沉积 AZO 薄膜光学性能影响 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 总结与展望 | 第47-49页 |
| ·总结 | 第47-48页 |
| ·展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 附录：攻读学位期间所发表学术论文目录 | 第53页 |