| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| ·有机荧光材料 | 第12-19页 |
| ·有机荧光材料的结构 | 第12页 |
| ·有机荧光材料的类型 | 第12-15页 |
| ·有机荧光材料的发光原理 | 第15-16页 |
| ·有机荧光材料的应用领域 | 第16-19页 |
| ·有机-无机杂化荧光材料 | 第19-25页 |
| ·有机-无机杂化荧光材料的类型 | 第19-20页 |
| ·有机-无机杂化荧光材料的制备方法及原理 | 第20-21页 |
| ·有机-无机介孔杂化荧光材料 | 第21-22页 |
| ·纳米二氧化硅微球荧光杂化材料 | 第22-23页 |
| ·有机-无机致密纳米二氧化硅微球荧光杂化材料的热分析动力学 | 第23-25页 |
| ·本课题的研究意义 | 第25-26页 |
| ·本课题的研究路线 | 第26页 |
| ·本课题的研究内容 | 第26-27页 |
| ·本课题的创新点 | 第27-28页 |
| 第2章 致密纳米 SiO_2负载萘二酸酐杂化材料的制备与表征 | 第28-48页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验部分 | 第28-32页 |
| ·原料与试剂 | 第28-29页 |
| ·仪器与装置 | 第29页 |
| ·表征设备与方法 | 第29-30页 |
| ·3-1,8-萘二甲酰胺基-丙基三乙氧基甲硅烷 (PID) | 第30页 |
| ·纳米二氧化硅球表面功能化 | 第30-31页 |
| ·有机-无机杂化材料的合成 | 第31页 |
| ·有机-无机杂化荧光材料合成过程 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-41页 |
| ·XRD 分析 | 第32页 |
| ·TEM 分析 | 第32-33页 |
| ·N2吸附-脱附分析 | 第33-34页 |
| ·FT-IR 分析 | 第34-35页 |
| ·TG 分析 | 第35-36页 |
| ·PL 分析 | 第36-38页 |
| ·时间分辨荧光光谱分析 | 第38-39页 |
| ·元素分析 | 第39-41页 |
| ·热力学分析 | 第41-46页 |
| ·热分析理论基础 | 第41-42页 |
| ·热分析性能研究 | 第42-45页 |
| ·热力学方程确定 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第3章 致密纳米 SiO_2负载 4-氨基-萘二酸酐杂化材料的制备与表征 | 第48-62页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验部分 | 第48-51页 |
| ·原料与试剂 | 第48-49页 |
| ·仪器与装置 | 第49页 |
| ·表征设备与方法 | 第49-50页 |
| ·4-氨基-3-1,8-萘二甲酰胺基-丙基三乙氧基硅烷 (NPID)的合成 | 第50页 |
| ·纳米二氧化硅球表面功能化 | 第50-51页 |
| ·有机-无机杂化材料的合成 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-60页 |
| ·XRD 分析 | 第51-52页 |
| ·TEM 分析 | 第52-53页 |
| ·N2吸脱附分析 | 第53-54页 |
| ·FT-IR 分析 | 第54-55页 |
| ·TG 分析 | 第55-56页 |
| ·PL 分析 | 第56-59页 |
| ·时间分辨荧光光谱分析 | 第59页 |
| ·元素分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 致密纳米 SiO_2负载苝四羧酸酐杂化材料的制备与表征 | 第62-76页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·实验部分 | 第62-65页 |
| ·原料与试剂 | 第62-63页 |
| ·仪器与装置 | 第63页 |
| ·表征设备与方法 | 第63-64页 |
| ·不同浓度双（丙基三乙氧硅烷基）苝二酰亚胺(BTP) 的合成 | 第64页 |
| ·纳米二氧化硅球表面功能化 | 第64-65页 |
| ·有机-无机杂化材料的合成 | 第65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-74页 |
| ·XRD 分析 | 第65-66页 |
| ·TEM 分析 | 第66页 |
| ·N2吸脱附分析 | 第66-68页 |
| ·FT-IR 分析 | 第68-69页 |
| ·TG 分析 | 第69-70页 |
| ·PL 分析 | 第70-72页 |
| ·时间分辨荧光光谱分析 | 第72页 |
| ·元素分析 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
