| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 概述 | 第11-25页 |
| ·超导材料简介 | 第11-13页 |
| ·超导的发现历程 | 第11-12页 |
| ·超导材料的基本特性 | 第12页 |
| ·超导材料的性能参数 | 第12-13页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第13-16页 |
| ·电力能源应用 | 第14-15页 |
| ·交通运输应用 | 第15页 |
| ·其它应用 | 第15-16页 |
| ·高温超导带材发展 | 第16-19页 |
| ·一代 Bi 系高温超导带材 | 第16-17页 |
| ·第二代 Y 系高温超导带材 | 第17-19页 |
| ·YBCO 涂层导体结构 | 第19-21页 |
| ·LZO 缓冲层薄膜 | 第21-24页 |
| ·论文选题依据及研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验方法、原理及分析检测 | 第25-38页 |
| ·制备方法基本原理 | 第25-26页 |
| ·MOD 基本原理 | 第25页 |
| ·溅射法基本原理 | 第25-26页 |
| ·实验设备及原料 | 第26-28页 |
| ·实验设备 | 第26页 |
| ·实验试剂 | 第26页 |
| ·实验所用基片 | 第26-28页 |
| ·实验工艺流程 | 第28-32页 |
| ·器皿清洗及基片的处理 | 第28-29页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第29-31页 |
| ·前驱体溶液的涂覆 | 第31-32页 |
| ·热处理 | 第32页 |
| ·薄膜的表征方法及原理 | 第32-38页 |
| ·X 射线衍射分析—XRD | 第33-34页 |
| ·原子力显微镜—AFM | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜分析—SEM | 第35-36页 |
| ·触针式台阶仪分析 | 第36页 |
| ·临界电流密度测试分析 | 第36-38页 |
| 第三章 Ni-W 基底上制备 LZO 薄膜研究 | 第38-44页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·前驱体溶液 | 第38-39页 |
| ·LZO 退火温度 | 第39-42页 |
| ·单层 MOD-LZO 薄膜的厚度 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第四章 PVD-Y_2O_3种子层上 LZO 薄膜的生长研究 | 第44-55页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·PVD-Y_2O_3种子层织构 | 第45页 |
| ·LZO/ PVD-Y_2O_3退火温度的影响 | 第45-47页 |
| ·PVD-Y_2O_3织构对三层 LZO 薄膜的影响 | 第47-50页 |
| ·双面 LZO 薄膜的制备 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 第五章 全 MOD 法制备高质量 LZO 缓冲层薄膜 | 第55-75页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·MOD-种子层浓度 | 第55-57页 |
| ·MOD 种子层退火时间对 LZO 缓冲层薄膜的影响 | 第57-60页 |
| ·MOD-LZO 种子层退火时间 | 第57-58页 |
| ·MOD-Y_2O_3种子层退火时间 | 第58-59页 |
| ·MOD-CeO_2种子层退火时间 | 第59-60页 |
| ·MOD-种子层退火温度对 LZO 缓冲层薄膜的影响 | 第60-64页 |
| ·种子层退火温度对 LZO 结晶的影响研究 | 第60-63页 |
| ·最优种子层形貌分析 | 第63-64页 |
| ·三层 LZO/MOD-种子层薄膜的制备 | 第64-72页 |
| ·三层 LZO/MOD-Y_2O_3薄膜 | 第64-67页 |
| ·三层 LZO/MOD-CeO_2薄膜 | 第67-72页 |
| ·YBCO 超导薄膜的验证实验研究 | 第72-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第82-83页 |
