用于改善图像显示对比度的光学薄膜特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·显示技术概述 | 第11-12页 |
| ·光学薄膜的发展应用 | 第12-14页 |
| ·平板显示器主要性能 | 第14-15页 |
| ·主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 光学薄膜设计的理论基础 | 第17-27页 |
| ·光学薄膜的电磁场理论 | 第17-19页 |
| ·麦克斯韦方程 | 第17-18页 |
| ·平面电磁波 | 第18页 |
| ·光学导纳 | 第18-19页 |
| ·平面电磁波在单一界面的反射和折射 | 第19-23页 |
| ·E 和 H 的边界条件 | 第19页 |
| ·反射定律和折射定律 | 第19-22页 |
| ·菲涅尔公式 | 第22-23页 |
| ·光学薄膜特性的理论计算 | 第23-25页 |
| ·单层介质薄膜反射率 | 第23-24页 |
| ·多层介质薄膜反射率 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 显示屏减反射膜系的设计和制备 | 第27-42页 |
| ·FPD 视窗减反射薄膜分析 | 第27-29页 |
| ·薄膜材料选择 | 第27-28页 |
| ·薄膜制备方法 | 第28-29页 |
| ·减反射薄膜的膜系设计 | 第29-34页 |
| ·AR 初始结构的确定 | 第30-32页 |
| ·AR 膜系的优化分析 | 第32-34页 |
| ·减反射薄膜的制备 | 第34-39页 |
| ·膜系制备方法选择 | 第34-35页 |
| ·实验设备选择 | 第35页 |
| ·实验步骤 | 第35-37页 |
| ·配置高低折射率溶胶 | 第35-36页 |
| ·基底材料的清洗 | 第36页 |
| ·制膜过程 | 第36-37页 |
| ·实验讨论 | 第37-39页 |
| ·水对溶胶的影响 | 第37页 |
| ·PH 值对溶胶的影响 | 第37-38页 |
| ·水解温度对溶胶的影响 | 第38页 |
| ·酸碱催化剂选择 | 第38页 |
| ·旋涂法制备薄膜厚度确定 | 第38-39页 |
| ·减反射膜性能 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 对比度改善膜的设计和制备 | 第42-63页 |
| ·对比度改善膜分析 | 第42-44页 |
| ·对比度增强膜的设计 | 第44-50页 |
| ·CRF 膜设计原理 | 第44-46页 |
| ·CRF 膜设计讨论 | 第46-47页 |
| ·CRF 膜设计模拟 | 第47-50页 |
| ·对比度增强膜的制备 | 第50-58页 |
| ·热压印技术简介 | 第50-51页 |
| ·模型刻蚀 | 第51-57页 |
| ·湿法刻蚀 | 第51-52页 |
| ·光刻工艺 | 第52-54页 |
| ·硅片刻蚀 | 第54-55页 |
| ·刻蚀结果 | 第55-57页 |
| ·热压印过程 | 第57-58页 |
| ·CRF 膜性能测试 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-66页 |
| ·结论 | 第63页 |
| ·存在的问题以及建议 | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
