| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 图和附表清单 | 第11-13页 |
| 1 绪论 | 第13-29页 |
| ·热电材料的基本理论 | 第14-16页 |
| ·热电学相关效应及其参数 | 第16-20页 |
| ·热电材料的研究进展 | 第20-22页 |
| ·高锰硅热电材料 | 第22-27页 |
| ·高锰硅热电材料的晶体及其结构 | 第23-24页 |
| ·高锰硅热电材料的制备方法 | 第24-25页 |
| ·高锰硅热电材料的发展现状及存在的问题 | 第25-27页 |
| ·本文的研究内容及目标 | 第27-28页 |
| ·研究内容 | 第27页 |
| ·研究目标 | 第27-28页 |
| ·研究技术路线 | 第28-29页 |
| 2 研究方法及分析手段 | 第29-36页 |
| ·实验原料及方法 | 第29-32页 |
| ·实验原料 | 第29-30页 |
| ·MnCl_2薄膜材料的制备工艺 | 第30-32页 |
| ·样品的生长实验 | 第32页 |
| ·实验设备 | 第32-36页 |
| ·材料制备所需仪器 | 第32-34页 |
| ·试样结构与性能分析仪器与设备 | 第34-36页 |
| 3 MnSi_(1.73 )薄膜的制备与表征 | 第36-57页 |
| ·生长方式对MnSi_(1.73)薄膜生长及其界面的影响 | 第36-48页 |
| ·接触生长方式的影响 | 第38-44页 |
| ·非接触生长方式的影响 | 第44-48页 |
| ·工艺参数对HMS(MnSi_(1.73))薄膜生长及其界面的影响 | 第48-55页 |
| ·生长温度对HMS薄膜生长以及界面的影响 | 第48-52页 |
| ·保温时间对HMS(MnSi_(1.73))薄膜生长以及界面的影响 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 4. HMS结构及反应规律分析 | 第57-68页 |
| ·HMS结构分析 | 第57-63页 |
| ·HMS反应规律分析 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 5 光谱性能及MnSi_(1.73)生长界面分析 | 第68-82页 |
| ·光谱性能分析 | 第68-70页 |
| ·形成HMS的机理分析 | 第70-78页 |
| ·低真空度条件下的分析 | 第71-75页 |
| ·高真空度条件下的分析 | 第75-78页 |
| ·HMS薄膜的界面变化 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 6 结论与展望 | 第82-84页 |
| ·结论 | 第82-83页 |
| ·展望 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 个人简历 在校期间发表的学术论文及研究成果 | 第90页 |
