| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·光催化及光催化剂 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化发展史 | 第11-13页 |
| ·TiO_2光催化基本原理 | 第13-16页 |
| ·TiO_2光催化反应过程 | 第13-15页 |
| ·光催化活性的影响因素 | 第15-16页 |
| ·液相法制备TiO_2 | 第16-19页 |
| ·液相沉淀法 | 第16页 |
| ·醇盐水解法 | 第16-17页 |
| ·微乳液法 | 第17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·水热和溶剂热法 | 第18-19页 |
| ·提高TiO_2光催化活性方法简介 | 第19-25页 |
| ·金属离子掺杂 | 第19页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第19-21页 |
| ·贵金属沉积 | 第21-22页 |
| ·半导体复合 | 第22页 |
| ·染料敏化 | 第22-23页 |
| ·富勒烯C_(60)、碳纳米管及石墨烯掺杂 | 第23-25页 |
| ·石墨烯概述 | 第25-28页 |
| ·石墨烯的制备 | 第25-27页 |
| ·石墨烯的改性 | 第27-28页 |
| ·课题的提出及研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验方法 | 第30-39页 |
| ·主要试剂及仪器 | 第30-31页 |
| ·大型分析测试仪器 | 第31-37页 |
| ·透射电子显微镜 | 第31-32页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第32-33页 |
| ·热分析 | 第33-34页 |
| ·比表面积(BET) | 第34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第34-36页 |
| ·紫外-可见漫反射 | 第36页 |
| ·紫外-可见光吸收 | 第36-37页 |
| ·光催化性能的表征 | 第37-39页 |
| 第三章 氮掺杂石墨烯/二氧化钛 | 第39-50页 |
| ·氮掺杂石墨烯/二氧化钛的制备及表征 | 第39-47页 |
| ·原料的制备 | 第39-40页 |
| ·产物的表征及光催化降解性能 | 第40-47页 |
| ·氮掺杂石墨烯含量对杂化材料光催化性能的影响 | 第47-49页 |
| ·不同NG含量的杂化材料(x-NGT)的表征 | 第47-48页 |
| ·x-NGT光催化性能测试 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第四章 煅烧对杂化材料光催化性能的影响 | 第50-55页 |
| ·在不同氛围(空气、氮气)中煅烧TiO_2与杂化材料 | 第50页 |
| ·煅烧后材料的相关表征 | 第50-53页 |
| ·光催化剂煅烧前后的光降解性能表征 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 个人简历 | 第61页 |